[发明专利]基质阵列和其制备方法

权利要求书

1.一种形成聚合物基质阵列的方法，所述方法包含：

将水溶液流入流槽的流室中，所述流槽包括孔阵列，所述水溶液流入所述孔阵列的孔中，所述水溶液包含聚合物前驱体；

将不可混溶流体流入所述流室中并在所述孔阵列上面以分隔所述孔阵列的所述孔内的所述水溶液；以及

使所述孔阵列的所述孔中分隔的所述聚合物前驱体聚合以形成所述聚合物基质阵列。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述孔具有0.1μm到2μm范围内的特征直径。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述孔具有在0.01μm到10μm范围内的厚度。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述孔阵列的所述孔覆盖在感测器阵列的感测器上面，所述孔与所述感测器阵列的所述感测器的离子敏感材料对应。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述聚合物基质阵列的聚合物基质与所述孔阵列的孔壁共形。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述聚合物前驱体包括能自由基聚合的单体。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述能自由基聚合的单体包括基于乙烯基的单体。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述基于乙烯基的单体包括丙烯酰胺、乙酸乙烯酯、甲基丙烯酸羟基烷基酯、或其变体或衍生物、或其任何组合。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述聚合物前驱体包括交联剂。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述交联剂为双-丙烯酰胺。

11.根据权利要求1所述的方法，其中所述聚合物前驱体包括表面活性添加剂。

12.根据权利要求1所述的方法，其中所述聚合物前驱体包括寡核苷酸官能化的丙烯酰胺。

13.根据权利要求1所述的方法，其中所述聚合物前驱体包括N-(5-溴乙酰胺基戊基)丙烯酰胺。

14.根据权利要求1所述的方法，其中将所述水溶液流入包括将乳液流入，所述乳液包括作为分散相的所述水溶液。

15.根据权利要求1所述的方法，其中所述不可混溶流体包括矿物油、硅油、庚烷、碳酸酯油、或其组合。

16.根据权利要求1所述的方法，其进一步包含在将所述水溶液流入之后旋转所述孔阵列。

17.根据权利要求1所述的方法，其进一步包含在将所述水溶液流入之后对所述孔阵列进行超声波处理。

18.根据权利要求1所述的方法，其进一步包含在将所述水溶液流入期间将所述孔阵列脱气。

19.根据权利要求1所述的方法，其进一步包含在将所述水溶液流入之前用亲水性流体润湿所述孔阵列。

20.根据权利要求1所述的方法，其中所述聚合物前驱体包括引发剂。

21.根据权利要求1所述的方法，其中所述不可混溶流体包括引发剂。

22.根据权利要求1所述的方法，其进一步包含在将所述水溶液流入之前用表面活性剂处理所述孔内的表面。