[发明专利]磁铁装置及磁共振成像装置有效

专利信息
申请号: 201480027004.7 申请日: 2014-05-27
公开(公告)号: CN105208929B 公开(公告)日: 2018-06-08
发明(设计)人: 堀知新;阿部充志 申请(专利权)人: 株式会社日立制作所
主分类号: A61B5/055 分类号: A61B5/055;G01R33/381
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 张敬强;严星铁
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 磁轭 磁极 对置部 对称面 中央带 对置 铅垂 磁铁装置 对置表面 配置的 磁共振成像装置 单调减小 两端部 圆盘状 侧视
【权利要求书】:

1.一种磁铁装置,其特征在于,具备:

对置地配置的一对大致圆盘状的磁极;以及

侧视呈C字或U字形状且该C字或U字形状的两端部与上述磁极接近地配置的磁轭,

上述磁轭具有与上述磁极接近地对置的磁轭侧对置部,

上述磁轭侧对置部具有:

中央带区域,其包含大致平分上述磁轭的铅垂对称面的一部分;以及

两侧带区域,其从上述铅垂对称面离开而位于上述中央带区域两侧,

在上述磁轭侧对置部的从与上述磁极接近地对置的磁轭侧对置表面起的高度中,上述中央带区域比上述两侧带区域高,

上述中央带区域比上述两侧带区域靠近上述磁极的外周。

2.一种磁铁装置,其特征在于,具备:

对置地配置的一对大致圆盘状的磁极;以及

侧视呈C字或U字形状且该C字或U字形状的两端部与上述磁极接近地配置的磁轭,

上述磁轭具有与上述磁极接近地对置的磁轭侧对置部,

上述磁轭侧对置部具有:

中央带区域,其包含大致平分上述磁轭的铅垂对称面的一部分;以及

两侧带区域,其从上述铅垂对称面离开而位于上述中央带区域两侧,

在上述磁轭侧对置部的从与上述磁极接近地对置的磁轭侧对置表面起的高度中,上述中央带区域比上述两侧带区域高,

从上述磁轭侧对置部到上述磁极的外周的距离随着靠近上述磁轭侧对置部的前端而连续地减小。

3.根据权利要求1或2所述的磁铁装置,其特征在于,

上述磁轭侧对置部的相对于上述铅垂对称面的法线方向的宽度随着靠近上述磁轭侧对置部的前端而广义单调减小,并且该宽度的最大值和最小值不同。

4.根据权利要求1或2所述的磁铁装置,其特征在于,

上述磁轭侧对置部的从上述磁轭侧对置表面起的高度随着从上述铅垂对称面远离而广义单调减小,并且该高度的最大值和最小值不同。

5.根据权利要求1或2所述的磁铁装置,其特征在于,

上述磁轭侧对置部的从磁轭侧对置表面起的高度随着靠近上述磁轭侧对置部的前端而广义单调减小,

并且上述磁轭侧对置部的与上述磁轭侧对置表面对置的外侧表面向外侧凸起。

6.根据权利要求1或2所述的磁铁装置,其特征在于,

上述磁轭具有连结一对上述磁轭侧对置部的磁轭连结部,

从一对上述磁极所共通的中心轴上,且在以上述中心轴为法线的平面上观察上述磁轭连结部时的视角比0度大且在180度以下。

7.根据权利要求1或2所述的磁铁装置,其特征在于,

上述磁轭侧对置部的相对于上述铅垂对称面的法线方向的宽度随着靠近上述磁轭侧对置部的前端而连续地减小。

8.根据权利要求1或2所述的磁铁装置,其特征在于,

与上述磁极接近地对置的上述磁轭侧对置部的从磁轭侧对置表面起的高度随着从上述铅垂对称面远离而连续地减小。

9.根据权利要求1或2所述的磁铁装置,其特征在于,

上述磁轭侧对置部的相对于上述铅垂对称面的法线方向的宽度随着靠近上述磁轭侧对置部的前端而阶段性地减小。

10.根据权利要求1或2所述的磁铁装置,其特征在于,

与上述磁极接近地对置的上述磁轭侧对置部的从磁轭侧对置表面起的高度随着从上述铅垂对称面远离而阶段性地减小。

11.根据权利要求1或2所述的磁铁装置,其特征在于,

具备与一对上述磁极接近地配置的一对大致圆环状的超导线圈。

12.根据权利要求1或2所述的磁铁装置,其特征在于,

具备与一对上述磁极接近地配置的一对大致圆盘状的永久磁铁。

13.一种磁共振成像装置,其特征在于,具有:

权利要求1至12中任一项所述的磁铁装置;以及

将被检者搬送到一对磁极之间的床台,

上述磁铁装置在一对上述磁极之间产生均匀的静磁场而形成摄像空间。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立制作所,未经株式会社日立制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201480027004.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top