[发明专利]具有高生产率的离子注入机

权利要求书

1.一种离子注入机(100)，其包括：

-封闭室(101，301，401)，其连接于一个泵装置(102，303)，

-等离子源(115-121-122，304-320，330-340，405-406)，

-极化电源(113，327)，

-气体入口(117，302，402)，其布置在所述封闭室上，

-基材保持架(104，304)，其连接于所述极化电源的负极，且布置在所述封闭室中，

其特征在于：

-所述基材保持架(104，304)至少由平行的两个板(105-106，305-306-307-308-309)组成，

-参比电极至少由一个极片(110，321-322-323-324)组成，所述参比电极连接于所述极化电源的正极，

-所述极片间置在两个板之间。

2.根据权利要求1所述的离子注入机，其特征在于，所述基材保持架(304)包括两个以上的板，这些板(305，306，307，308，309)在基部装配在一个底座(310)上。

3.根据权利要求2所述的离子注入机，其特征在于，所述参比电极由多个极片(321，322，323，324)组成，这多个极片在基部装配在一个支承件(325)上，所述极片每个都间置在相邻的两个板之间。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的离子注入机，其特征在于，所述等离子源由所述基材保持架(304)和支承件(320)组成，放电电压施加在所述基材保持架和所述支承件这两个元件之间。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的离子注入机，其特征在于，所述等离子源是一个射频天线(340)，所述射频天线在所述基材保持架(304)处围绕着所述封闭室(301)，所述射频天线连接于一个射频发生器。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的离子注入机，其特征在于，所述等离子源(405-406)围绕所述封闭室(401)布置在所述气体入口(402)与所述基材保持架(304)之间，所述等离子源由一个发生器供给等离子。

7.根据权利要求4至6中任一项所述的离子注入机，其特征在于，所述离子注入机包括磁性线圈(330，410)，所述磁性线圈围绕所述基材保持架(304)布置在所述封闭室(301，401)的外部。

8.根据权利要求4至7中任一项所述的离子注入机，其特征在于，所述离子注入机包括加热所述基材保持架(304)的加热部件。

9.根据前述权利要求中任一项所述的离子注入机，其特征在于，所述基材保持架(304)接地。

10.根据权利要求1至8中任一项所述的离子注入机，其特征在于，所述参比电极(110，320)接地。

11.根据前述权利要求中任一项所述的离子注入机，其特征在于，所述板(105-106，305-306-307-308-309)是水平的。

12.根据权利要求1至10中任一项所述的离子注入机，其特征在于，所述板(105-106，305-306-307-308-309)是垂直的。