[发明专利]曝光装置和照明单元

说明书

本发明涉及通过利用微透镜阵列将掩模上的图案成像在基板上而曝光基板的曝光装置等，并使射出曝光光的照明单元小型化。微透镜阵列(30)具有包含朝向与移动方向(A)相交的方向的排列且以二维方式配置的多个微透镜(31)，照明单元具有：排列有多个激光二极管的LD阵列条；以及照明光学系统，其将从构成该LD阵列条的多个激光二极管射出的多个发出光转换成缝形状的曝光光束，并利用该曝光光束的曝光光(170)对排成一列的多个微透镜上进行照明，关于与移动方向相交的方向，该曝光光束以跨越在该方向上排列的多个微透镜的方式扩展，并且关于移动方向，该曝光光束被限制为不会波及排列于在该移动方向上相邻的列上的微透镜的宽度。

技术领域

本发明涉及曝光装置和照明单元，该曝光装置通过利用微透镜阵列将掩模上的曝光图案成像在基板上而曝光基板，该照明单元在该曝光时射出曝光光而对掩模进行照明。

背景技术

已提出有如下的曝光装置：将按二维方式排列微透镜而成的微透镜阵列用作成像光学系统，将掩模上的曝光图案描绘到基板上(专利文献1)，上述曝光装置在液晶面板制造工序等中被实用化。在该方式的曝光装置中，在形成有曝光图案的掩模的上方配置射出曝光光而对掩模进行照明的照明单元，并将微透镜阵列配置在掩模与涂布了感光性抗蚀剂的基板之间。并且，通过一边使照明单元和微透镜阵列相对于掩模和基板相对地移动一边利用微透镜阵列将掩模上的曝光图案成像在基板上而曝光基板(参照专利文献2)。由此，能够对大面积的基板进行曝光，该基板的面积超过微透镜阵列的静止时的曝光区域。

并且，在专利文献3中示出了适于该方式的曝光装置的、由光源和光学系统构成的照明单元的结构。该专利文献3所示的照明单元采用如下构造：按二维方式排列多个高压水银灯，使来自这些多个高压水银灯的发出光透过由透镜或几张反射镜构成的光学系统而对掩模进行照明。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2007-3829号公报

专利文献2：日本特开2012-220592号公报

专利文献3：日本特开2013-97310号公报

发明内容

发明要解决的课题

在上述类型的曝光装置的情况下，通过采用微透镜阵列能够以高分辨率将掩模上的曝光图案成像在基板上，而且能够使掩模与基板接近例如10mm左右等而在它们之间配置微透镜阵列从而实现低高度化。

然而，关于照明单元，以往排列多个高压水银灯而需要尺寸较大的光学系统，单单该照明单元本身的高度便例如为2m左右等，成为曝光装置的小型化、低高度化的较大的阻碍。

本发明是鉴于上述情况而完成的，其目的在于提供一种小型化、低高度化的照明单元以及通过采用该照明单元而实现小型化、低高度化的曝光装置。

用于解决课题的手段

达成上述目的的本发明的曝光装置具有：

照明单元，其射出曝光光；

掩模，其形成有曝光图案，并接受来自照明单元的曝光光的照射；

微透镜阵列，其将掩模作为被摄体；以及

移动机构，其使照明单元和微透镜阵列相对于掩模和基板这双方，向规定的移动方向相对移动，其中，通过微透镜阵列将掩模上的曝光图案成像在基板上，

曝光装置借助由上述移动机构实现的向上述移动方向的相对移动，在基板上的、具有超过微透镜阵列静止时的曝光区域的广度的区域内，将基板曝光成与掩模上的曝光图案对应的图案，

曝光装置的特征在于，