[发明专利]用于生产包括三元合金的低辐射玻璃的涂层系统、方法和装置

权利要求书

1.一种低辐射板，包括：

基片；

反射层，被形成在所述基片上；和

顶部介质层，被形成在所述反射层上，从而所述反射层被形成在所述顶部介质层和所述基片之间，

所述顶部介质层包括锌锡铝氧化物，其中，所述顶部介质层中的锌对锡的原子比为0.67-1.5，

所述顶部介质层实质上是无定形的。

2.如权利要求1所述的低辐射板，其中，所述顶部介质层中铝浓度的原子百分比为1％-15％。

3.如权利要求1所述的低辐射板，其中，所述顶部介质层中铝浓度的原子百分比为2％-10％。

4.如权利要求1所述的低辐射板，其中，所述顶部介质层具有3eV-6eV的带隙。

5.如权利要求1所述的低辐射板，其中，对于400nm-2500n的波长范围，所述顶部介质层的吸收系数为0。

6.如权利要求1所述的低辐射板，其中，所述顶部介质层的厚度为10nm-50nm。

7.如权利要求1所述的低辐射板，进一步包括：阻挡层，被形成在所述顶部介质层和所述反射层之间，所述阻挡层包含部分氧化的至少镍、钛、和铌的合金。

8.如权利要求7所述的低辐射板，进一步包括：顶部扩散层，被形成在所述顶部介质层上，从而所述顶部介质层被形成在所述顶部扩散层和所述阻挡层之间，所述顶部扩散层包含氮化硅。

9.如权利要求8所述的低辐射板，进一步包括：底部扩散层，被形成在所述基片和所述反射层之间；底部介质层，被形成在所述底部扩散层和所述基片的之间；和种子层，被形成在所述底部介质层和所述反射层之间。

10.一种形成低辐射板的方法，其步骤包括：

提供部分装配板，所述部分装配板包括基片，反射层被形成在所述基片上，且阻挡层被形成在所述反射层上，从而所述反射层被形成在所述基片和所述阻挡层之间；且

在含有氧气的环境使用反应溅射法，在所述阻挡层上形成顶部介质层，

所述阻挡层包括部分氧化的三种或者多种金属的合金，

所述顶部介质层包括锌锡铝氧化物，其中，所述顶部介质层中的锌对锡的原子比为0.67-1.5，

所述顶部介质层实质上是无定形的。

11.如权利要求10所述的方法，进一步包括：热处理具有所述顶部介质层的所述部分装配板。

12.如权利要求11所述的方法，其中，在响应于热处理的应用中，所述低辐射板的透射率到可见光的变化小于3％。

13.如权利要求10所述的方法，其中，所述顶部介质层中铝浓度的原子百分比为1％-15％。

14.如权利要求10所述的方法，其中，所述顶部介质层中铝浓度的原子百分比为2％-10％。

15.如权利要求10所述的方法，其中，所述顶部介质层具有3eV-6eV的带隙。

16.如权利要求10所述的方法，其中，所述顶部介质层的厚度为10nm-50nm。

17.如权利要求10所述的方法，进一步包括：在所述顶部介质层上形成顶部扩散层，所述顶部扩散层包括氮化钛。

18.形成低辐射板的方法，其步骤包括：

提供基片；

底部扩散层，形成在所述基片上；

底部介质层，形成在所述底部扩散层上；

种子层，形成在所述底部介质层上；

反射层，形成在所述种子层上；

阻挡层，形成在所述反射层上；及

顶部介质层，形成在所述阻挡层上，且

所述阻挡层包括部分氧化的三个或多个金属的合金，

所述顶部介质层包括锌锡铝氧化物，其中，所述顶部介质层中的锌对锡的原子比为0.67-1.5，

所述顶部介质层实质上是无定形的，

所述顶部介质层用反应溅射法，在含有氧气的环境被形成。