[发明专利]透明漫射性OLED基材及制造此基材的方法

权利要求书

1.透明漫射性OLED基材，其包含下列连续的元件或层：

(a) 由具有介于1.45和1.65之间的折射率的矿物玻璃制成的透明平坦基材，

(b) 包含矿物颗粒的粗糙的低折射率层，所述矿物颗粒通过溶胶-凝胶矿物粘合剂连接到所述基材的一侧，在所述矿物粘合剂的表面附近、所述矿物粘合剂的表面处或自所述矿物粘合剂的表面突出的矿物颗粒产生以介于0.15和3 µm之间的算术平均偏差R_a为特征的表面粗糙度，所述矿物颗粒和矿物粘合剂两者都具有介于1.50和1.60之间的折射率；

(c) 由具有介于1.8和2.1之间的折射率的搪瓷制成的覆盖所述粗糙的低折射率层的高折射率层，其中所述高折射率层的厚度介于3 µm和20 µm之间。

2.根据权利要求1的基材，其中所述矿物颗粒具有介于0.3 µm和10 µm之间的平均等效球体直径。

3.根据权利要求1或2的基材，其中所述矿物颗粒是固体珠粒。

4.根据权利要求1的基材，其中所述矿物颗粒不含具有大于15 µm的等效球体直径的颗粒。

5.根据权利要求1的基材，其中所述基材、矿物粘合剂和矿物颗粒的折射率介于1.50和1.60之间。

6.根据权利要求1的基材，其中所述高折射率层的厚度介于4 µm和15 µm之间。

7.根据权利要求1的基材，其中所述高折射率层的表面粗糙度具有小于3 nm的算术平均偏差R_a。

8.根据权利要求1的基材，其中所述高折射率层不含分散在其中的漫射性固体颗粒。

9.根据权利要求1的基材，其中所述矿物颗粒选自二氧化硅颗粒。

10.根据权利要求1的基材，其还包含所述高折射率层上的透明导电层。

11.根据权利要求1的基材，其中所述矿物颗粒对所述矿物粘合剂的体积比介于0.3和3之间。

12.用于制备根据前述权利要求任一项的透明漫射性基材的方法，所述方法包括以下连续步骤：

(1) 提供由具有介于1.45和1.65之间的折射率的矿物玻璃制成的透明平坦基材；

(2) 将具有介于1.50和1.60之间的折射率的矿物颗粒分散在具有介于1.50和1.60之间的折射率的矿物粘合剂的至少一种前体的溶胶中；

(3) 将所得的分散体施加到所述基材的一侧上；

(4) 通过加热来干燥和烧制所得层，以获得包含矿物颗粒和矿物粘合剂的透明粗糙的低折射率层；

(5) 将具有介于1.8和2.1之间折射率的高折射率玻璃熔料的层施加到所述粗糙的低折射率层上；

(6) 干燥和熔化所述高折射率玻璃熔料，以获得覆盖所述粗糙的低折射率层的具有介于1.8和2.1之间的折射率的高折射率层。

13.根据权利要求12的方法，其中所述矿物粘合剂的至少一种前体选自：硅酸钠、硅酸钾或硅酸锂、四烷氧基硅烷、烷氧化钛、烷氧化铝、烷氧化锆。

14.根据权利要求12的方法，其中在步骤(4)中的干燥和烧制通过在至少100℃的温度下加热来进行。

15.根据权利要求12的方法，其中所述矿物颗粒具有介于0.3 µm和10 µm之间的平均等效球体直径。