[发明专利]防护膜组件及含有其的EUV曝光装置

权利要求书

1.一种防护膜组件，其包括波长550nm的光的折射率n为1.9～5.0的防护膜以及贴附了所述防护膜的防护膜组件框，

所述防护膜在组成中包含30摩尔％～100摩尔％的碳以及0摩尔％～30摩尔％的氢，

所述防护膜的拉曼光谱中的2D带与G带的强度比，即2D带的强度/G带的强度为1以下，或者2D带与G带的强度分别为0，

所述防护膜包含马赛克扩散为5.0以下的石墨膜。

2.如权利要求1所述的防护膜组件，所述防护膜的厚度为10nm～120nm。

3.如权利要求1所述的防护膜组件，所述防护膜是对高分子膜赋予高能量而获得的。

4.如权利要求3所述的防护膜组件，所述高分子膜为聚酰亚胺膜。

5.一种EUV曝光装置，其包括EUV光源、光学系统以及原版，

将来自所述EUV光源的光经由所述光学系统而引导至所述原版，

在所述原版的光入射面设置有权利要求1所述的防护膜组件。

6.一种曝光原版，其包括：

原版；以及

安装在所述原版的权利要求1所述的防护膜组件。

7.一种曝光方法，其包括下述步骤：

从EUV光源，使EUV通过权利要求6所述的曝光原版的所述防护膜而照射至所述原版；以及

使所述原版反射的EUV通过所述防护膜而照射至感应基板，从而将感应基板曝光为图案状。