[发明专利]获得单晶含镓氮化物的方法以及由该方法获得的单晶含镓氮化物在审
申请号: | 201480031120.6 | 申请日: | 2014-03-24 |
公开(公告)号: | CN105556006A | 公开(公告)日: | 2016-05-04 |
发明(设计)人: | 罗曼·多拉德津斯基;马尔钦·扎亚茨;罗伯特·库哈尔斯基 | 申请(专利权)人: | 在破产清算中的阿蒙诺股份公司 |
主分类号: | C30B29/40 | 分类号: | C30B29/40;C30B7/10 |
代理公司: | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人: | 全万志;王春伟 |
地址: | 波兰*** | 国省代码: | 波兰;PL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 获得 单晶含镓 氮化物 方法 以及 | ||
本发明的目的是一种在添加了含有第I族(IUPAC,1989)元素的矿化 剂的超临界含氨溶剂的环境下获得单晶含镓氮化物的方法,其中,在高压釜 中产生两个温度区域,即温度较低的溶解区域和其下方的温度较高的结晶区 域,所述溶解区域包含原料,所述结晶区域包含至少一个晶种,进行原料的 溶解过程和含镓氮化物在至少一个晶种上的结晶过程。本发明还包括通过此 方法获得的单晶含镓氮化物。
由国际专利申请第WO02/101120A2号已知一种通过在含矿化剂的超临 界氨溶液中再结晶来获得块状单晶含镓氮化物、尤其是氮化镓GaN的方法。 文献WO02/101120A2全面且详尽地描述了在该工艺中使用的反应器(高压 釜)的结构以及合适的原料、晶种、矿化剂以及工艺的温度-压力过程。在 WO02/101120A2中公开的关键信息是氮化镓在这些条件下具有负的溶解度 温度系数。这意味着其溶解度随温度上升而下降。因此,在高压釜中,将原 料放置在晶种上方,并且在再结晶阶段,在晶种区域维持比原料所在的区域 的温度高的温度。以该方式进行的工艺的结果是原料溶解且单晶GaN在晶种 上生长。WO02/101120A2没有提到使用II族(IUPAC,1989)金属即碱土 金属,特别是钙,作为用于矿化剂的添加剂或作为矿化剂本身。其指出Mg 和Zn为可能的掺杂元素。没有描述获得的氮化物单晶的电性能。
波兰专利申请第P-357706号公开了一种为碱金属和碱土金属(例如提到 了钙和镁)形式的复合矿化剂,所述碱土金属以相对于所述碱金属为1:500 至1:5的摩尔比使用。该申请提到了使材料掺杂的可能性,但是没有详细说 明具体的掺杂剂的量。没有描述获得的氮化物单晶的电性能。
进而,波兰专利申请第P-357700号公开了一种为碱金属与受主掺杂剂 (例如提到了镁、锌及镉)形式的复合矿化剂。没有同时具体说明受体掺杂 剂相对于碱金属或氨的量。在实施方案中,公开了镁形式的掺和剂,其以相 对于主要矿化剂即相对于钾为0.05的摩尔比使用。申请没有明确地提到将钙 与碱金属组合使用作为矿化剂。没有描述获得的氮化物单晶的电性能。
在国际专利申请第WO2004/053206A1号中,也描述了使用为碱金属与 碱土金属、优选钙或镁形式的复合矿化剂,或者碱金属与受主掺杂剂例如镁、 锌或镉形式的复合矿化剂。然而,没有公开同时使用碱金属、钙及受主掺杂 剂。没有描述获得的氮化物单晶的电性能。
国际申请第WO2005/122232A1号公开了使用0.05g的Zn或0.02g的 Mg作为原料的掺和剂,所述原料为金属镓。这意味着,在工艺条件下,Mg 或Zn相对于氨的摩尔比约为10-5的量级,所述氨使用了240g即约14mol。 因此,根据WO2005/122232A1,获得了电阻率为约106Ω·cm的补偿(半绝 缘)材料。申请没有公开使用钙(或任何其他吸氧剂)作为矿化剂的掺和剂。 没有解决获得的晶体中的氧含量的问题。
最后,欧洲申请第EP2267197A1号,为了控制氮化镓的电性能且尤其 是为了获得补偿(半绝缘)材料,需要以至少0.0001、最优选至少0.001的 相对于氨的摩尔比使用为碱金属形式的矿化剂,并与其同时地使用受主掺杂 剂,具体为镁、锌或锰掺杂剂。在使用锌或镁的情况下,在工艺后直接获得 p型材料。只有在另外的加热处理(退火)后,它才成为半绝缘材料。在使 用锰的情况下,在工艺后能够直接获得半绝缘材料。申请没有公开使用钙(或 任何其他吸氧剂)作为矿化剂的掺和剂。没有解决获得的晶体中的氧含量的 问题。
目前为止,根据前述专利申请的公开内容,没有公开或建议在该用于获 得含镓氮化物的方法中,以相对于氨为1:200至1:2的摩尔比与碱金属(第I 族金属,IUPAC,1989)形式的矿化剂同时地将至少两种额外的组分引入过 程环境,即:
a)为钙或稀土元素或其组合的形式的吸氧剂,其相对于氨的总摩尔比为 0.0001至0.2;和
b)未镁、锌、镉或铍或其组合的形式的受主掺杂剂,其相对于氨的总 摩尔比不大于0.001。
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