[发明专利]包括双重制冷剂和液体工作流体的制冷系统在审
| 申请号： | 201480031214.3 | 申请日： | 2014-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN105264040A | 公开（公告）日： | 2016-01-20 |
| 发明（设计）人： | 徐延杰 | 申请（专利权）人： | 徐延杰 |
| 主分类号： | C09K5/04 | 分类号： | C09K5/04 |
| 代理公司： | 北京思创毕升专利事务所 11218 | 代理人： | 郑莹;孟红 |
| 地址： | 美国科*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 包括 双重 制冷剂 液体 工作 流体 制冷系统 | ||
1.一种用于制冷系统的制冷剂组合物，包含：
a)水、醇和式1所示的化合物，或者它们的混合物：
其中，A选自N、P或S；且
i)当A是N时，R1、R2、R3和R4各自独立地与N以及相邻的R1、R2、R3或R4基团形成双键，或者各自独立地选自由氢、(C1-C20)烷基、芳基、(C3-C10)杂环基、(C3-C10)环烷基、(C3-C10)杂环基(C1-C8)烷基、芳基(C1-C8)烷基、杂芳基和杂芳基(C1-C8)烷基组成的组，其中的基团可以是未取代的或被一种或两种以下基团取代：卤素、硝基、三氟甲基、三氟甲氧基、甲氧基、羧基、-NH2、-OH、-SH、-NHCH3、-N(CH3)2、氰基、-SMe、-SO3H、-P((C1-C5)烷基)2和-P(O)(OEt)2；或者
R1、R2和R3一起与N形成杂芳基，或者R1和R2一起与N形成杂环，其中的每种基团是未取代的或被选自卤素、硝基、三氟甲基、三氟甲氧基、甲氧基、羧基、-NH2、-OH、-SH、-NHCH3、-N(CH3)2、-SMe、氰基、(C1-C3)烷基、芳基、(C3-C6)环烷基、芳基(C1-C3)烷基和杂芳基的基团取代；
ii)当A是S时，R1、R2、R3和R4各自独立地选自由氢、(C1-C20)烷基、芳基、(C3-C10)杂环基、(C3-C10)环烷基、(C3-C10)杂环基(C1-C8)烷基、芳基(C1-C8)烷基、杂芳基和杂芳基(C1-C8)烷基组成的组，其中的基团可以是未取代的或被一种或两种以下基团取代：卤素、硝基、三氟甲基、三氟甲氧基、甲氧基、羧基、-NH2、-OH、-SH、-NHCH3、-N(CH3)2、氰基、-SMe、-SO3H、-P((C1-C5)烷基)2和-P(O)(OEt)2；且
iii)当A是P时，R1、R2、R3和R4各自独立地选自由氢、(C1-C20)烷基、芳基、(C3-C10)杂环基、(C3-C10)环烷基、(C3-C10)杂环基(C1-C8)烷基、芳基(C1-C8)烷基、杂芳基和杂芳基(C1-C8)烷基组成的组，其中的基团可以是未取代的或被一种或两种以下基团取代：卤素、硝基、三氟甲基、三氟甲氧基、甲氧基、羧基、-NH2、-OH、-SH、-NHCH3、-N(CH3)2、氰基、-SMe、-SO3H、-P((C1-C5)烷基)2和-P(O)(OEt)2；以及
b)至少一种在制冷循环期间能发生可逆化学反应的气体制冷剂。
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