[发明专利]半导体检查用的耐热性粘合片有效

专利信息
申请号: 201480031649.8 申请日: 2014-06-10
公开(公告)号: CN105264034B 公开(公告)日: 2019-03-12
发明(设计)人: 中岛刚介;津久井友也 申请(专利权)人: 电化株式会社
主分类号: C09J4/06 分类号: C09J4/06;C09J7/35;C09J11/06;C09J133/06;C09J175/04;C09J183/10;H01L21/02
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 半导体 检查 耐热性 粘合
【权利要求书】:

1.一种半导体检查用的耐热性粘合片,为在加热半导体芯片的同时进行性能检查的工序中所使用,其特征在于,所述粘合片为在基材上设有粘着剂层而成,所述粘合片贴附于所述半导体芯片而被加热至60℃~150℃,所述基材为在150℃下加热30分钟后的热收缩率为0.1~0.2%,且60℃~150℃下的线膨胀系数为1.3×10-5/K~3.0×10-5/K的、聚萘二甲酸乙二酯、聚苯硫醚、聚醚醚酮或和纸,且所述粘合片的所述粘着剂层包含(甲基)丙烯酸共聚物、光聚合性化合物、多官能异氰酸酯硬化剂以及光聚合起始剂;

所述光聚合起始剂以10℃/分钟的升温速度从23℃开始升温时,在250℃以上的特定温度下所述光聚合起始剂的质量减少率成为10%,

对100质量份的所述(甲基)丙烯酸共聚物,所述光聚合性化合物为50~150质量份,所述多官能异氰酸酯硬化剂为1~10质量份,所述光聚合起始剂为1~10质量份,且所述粘着剂层不包含增粘树脂。

2.根据权利要求1所述的半导体检查用的耐热性粘合片,其特征在于,所述粘着剂层包含硅氧烷类接枝共聚物。

3.根据权利要求1或2所述的半导体检查用的耐热性粘合片,其特征在于,所述多官能异氰酸酯硬化剂具有3个以上的异氰酸酯基。

4.根据权利要求1或2所述的半导体检查用的耐热性粘合片,其特征在于,所述粘合片是在半导体的制造方法中所使用的粘合片,所述半导体的制造方法包括:

(a)贴附工序,将粘合片贴附于半导体芯片;

(b)吸附工序,吸附并固定贴附有粘合片的半导体芯片,使其以粘合片接触载置台的方式承载于60~150℃的载置台上;

(c)检查工序,将载置台加热至60~150℃的同时检查半导体芯片的性能;

(d)紫外线照射工序,对粘合片照射紫外线;以及

(e)拾取工序,自粘合片拾取半导体芯片。

5.根据权利要求1或2所述的半导体检查用的耐热性粘合片,为在半导体的制造方法中所使用的粘合片,其特征在于,所述半导体的制造方法包括:

(a)贴附工序,将粘合片贴附于半导体晶圆或基板;

(b)切割工序,切割半导体晶圆或基板,使其成为半导体芯片;

(c)吸附工序,吸附并固定贴附有粘合片的半导体芯片,使其以粘合片接触载置台的方式承载于60~150℃的载置台上;

(d)检查工序,将载置台加热至60~150℃的同时检查半导体芯片的性能;

(e)紫外线照射工序,对粘合片照射紫外线;以及

(f)拾取工序,自粘合片拾取半导体芯片。

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