[发明专利]包含硅氧烷低聚物和无机微粒的固化性组合物

说明书

技术领域

本发明涉及包含硅氧烷低聚物和无机微粒的固化性组合物，涉及可以形成折射率低的固化膜、低折射率层的固化性组合物。

背景技术

以往，已知通过在基材上施与比该基材低的折射率的被膜，从而反射率降低，在液晶显示器(LCD)、等离子体显示器(PDP)、电致发光显示器(EL)等各种显示器、光学部件透镜、荧光屏等中，低折射率的被膜作为防反射膜被利用。

一般已知防反射膜由多层膜构成，残存反射率低。在由多层膜构成的情况下，由于制作方法使用真空蒸镀法、浸渍涂布法等那样的方法，因此复杂，在低生产性、高成本和经济上也有问题。

另一方面，还已知由单层或二层的涂膜层形成的构成，在该构成中，层形成工序少且简单，因此成本低，大量生产容易，但可举出残存反射率高这样的缺陷。

为了解决上述那样的问题，进行了各种低折射率涂膜的开发。其中，二氧化硅溶胶为较低折射率的材料，宽的波长光透过性也优异。进一步，已知通过将二氧化硅微粒用于膜形成材料，从而所得的防反射膜形成在微粒间具有微小的间隙的结构，使防反射膜整体的折射率降低，作为其结果获得优异的防反射效果。具体而言，公开了在光固化性的粘合剂中添加有二氧化硅微粒的材料(专利文献1)，在烷氧基硅烷中添加有二氧化硅微粒的材料(专利文献2)等。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2003-107206号公报

专利文献2：日本特开2007-025078号公报

发明内容

发明所要解决的课题

如上述那样，提出了各种使用二氧化硅微粒和粘合剂来生产性良好地获得低折射率膜的方法，但在上述那样的使用二氧化硅微粒的情况下，如果为了利用微粒间具有微小的间隙的结构来实现低折射率化，而使所使用的二氧化硅的量为大量，则有膜本身的强度变弱，进而成膜性恶化这样的担忧。

此外，例如上述专利文献1的方法中，虽然获得了具有低折射率层的防反射膜，但抑制二氧化硅微粒的使用量时，难以获得充分低的折射率。

这样，在包含(甲基)丙烯酸改性的氟化合物、硅化合物、多官能(甲基)丙烯酸酯化合物作为粘合剂成分的固化性组合物中使用二氧化硅微粒的情况下，保持膜的强度且表现充分满足的低折射率非常地难，期望进一步的低折射率化的改善。

即本发明的课题在于提供即使在不降低固化膜的强度那样的二氧化硅微粒的添加量时也显示充分低的折射率，此外能够以能够适用于不耐加热的树脂基材的活性能量射线进行固化的低折射材料。

用于解决课题的方法

本发明人等为了实现上述目的而反复进行了深入研究，结果发现，采用具有自由基聚合性双键的烷氧基硅烷部分水解缩合物作为固化性成分，而且包含以二氧化硅微粒为代表的无机微粒和光聚合引发剂的固化性组合物能够形成成膜性优异，可以实现高透明性和低折射率的固化膜。

即本发明中，作为第1观点，涉及一种固化性组合物，其包含：

(a)具有自由基聚合性双键的硅氧烷低聚物100质量份，所述(a)具有自由基聚合性双键的硅氧烷低聚物是通过使至少包含式[1]所示的烷氧基硅烷A和式[2]所示的烷氧基硅烷B的烷氧基硅烷水解缩合而获得的，

(b)无机微粒10～1,000质量份，以及

(c)能够通过活性能量射线而产生自由基的聚合引发剂0.1～25质量份。

R¹_aSi(OR²)_4-a[1] R³_bSi(OR⁴)_4-b[2]

(式中，R¹表示具有自由基聚合性双键的1价有机基团，R³表示碳原子数1～10的烷基(所述烷基可以被氟原子、至少被碳原子数1～6的烷基取代的氨基、至少被苯基取代的氨基、或脲基取代。)或苯基，R²和R⁴各自独立地表示甲基或乙基，a表示1或2，b表示0～2的整数。)

作为第2观点，涉及第1观点所述的固化性组合物，所述(a)硅氧烷低聚物是通过使式[1]所示的烷氧基硅烷A和式[2]所示的烷氧基硅烷B水解缩合而获得的具有自由基聚合性双键的硅氧烷低聚物。