[发明专利]可见光响应型光催化剂体及其制造方法有效
申请号: | 201480032759.6 | 申请日: | 2014-08-12 |
公开(公告)号: | CN105307770B | 公开(公告)日: | 2017-04-05 |
发明(设计)人: | 藤井佑基;三浦裕太;宫尾幸光 | 申请(专利权)人: | 日立金属株式会社 |
主分类号: | B01J27/04 | 分类号: | B01J27/04;B01J35/02;B01J37/34;C25D11/26 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人: | 蒋亭 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 可见光 响应 光催化剂 及其 制造 方法 | ||
1.一种可见光响应型光催化剂体,其特征在于,其是对钛或钛合金的基材的表面使用含有硫的电解浴实施阳极氧化处理后,对所述阳极氧化处理完毕的基材实施加热处理,而在所述基材的表面形成有含有硫且在表面具有微细孔的多孔质的氧化钛皮膜的可见光响应型光催化剂体,
所述基材的厚度为0.005mm~0.6mm,
所述氧化钛皮膜中包含的二氧化钛的结晶结构是锐钛矿型结晶结构。
2.根据权利要求1所述的可见光响应型光催化剂体,其特征在于,所述氧化钛皮膜含有0.7~2.2原子%的硫。
3.根据权利要求1或2所述的可见光响应型光催化剂体,其特征在于,所述氧化钛皮膜的膜厚为200nm以下。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的可见光响应型光催化剂体,其特征在于,设所述微细孔的孔宽的最大值与最小值的平均值为孔宽W时,所述孔宽W为50~100nm。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的可见光响应型光催化剂体,其特征在于,所述基材为长条形,引至连续阳极氧化装置而连续地实施阳极氧化处理。
6.根据权利要求5所述的可见光响应型光催化剂体,其特征在于,根据用途以达到规定的尺寸的方式进行切断。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的可见光响应型光催化剂体,其特征在于,所述基材是箔状或板状。
8.根据权利要求1至6中任一项所述的可见光响应型光催化剂体,其特征在于,所述基材是从其表面贯通至背面的微细的贯通孔以规定的间隔排列而成的冲孔状或网眼状。
9.根据权利要求1至6中任一项所述的可见光响应型光催化剂体,其特征在于,所述基材是将由钛或钛合金所构成的线材平织成网状而成的。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的可见光响应型光催化剂体,其特征在于,对于可见光至紫外光的区域的波长具备光催化活性。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的可见光响应型光催化剂体,其特征在于,通过依据JISR1702的光催化抗菌性试验得到的抗菌活性值R为2.0以上。
12.根据权利要求1至11中任一项所述的可见光响应型光催化剂体,其特征在于,以扫描型电子显微镜观察所述氧化皮膜的表面时,在纵横为1000nm×1000nm的正方形范围内,所述孔宽W为50~100nm的微细孔存在30个以上。
13.一种光催化剂体制造方法,其特征在于,其是通过对所述基材的表面使用含有硫代硫酸钠0.01mol/L~0.2mol/L的电解浴实施阳极氧化处理后,再实施加热处理而制造权利要求1至权利要求12中任一项所述的可见光响应型光催化剂体的制造方法,
使阳极氧化处理的外加电压为+70V~+140V,阳极氧化时间为10秒~60秒,阳极氧化处理的电解浴的浴温为1℃~30℃,加热处理在氧化性气氛中以380℃~620℃的温度进行。
14.根据权利要求13所述的可见光响应型光催化剂体的制造方法,其特征在于,所述电解浴还含有碘化钾0.005mol/L~0.1mol/L。
15.根据权利要求13和14所述的可见光响应型光催化剂体的制造方法,其特征在于,使用长条状的基材作为所述基材,将所述长条状的基材引至连续阳极氧化装置而连续地实施阳极氧化处理后,对阳极氧化处理完毕的长条状的基材连续地实施加热处理。
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