[发明专利]焊锡凸块的制造方法在审
申请号: | 201480032887.0 | 申请日: | 2014-07-16 |
公开(公告)号: | CN105283949A | 公开(公告)日: | 2016-01-27 |
发明(设计)人: | 山本佳史;石川雅之;宇野浩规;山路贵司 | 申请(专利权)人: | 三菱综合材料株式会社 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 康泉;王珍仙 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 焊锡 制造 方法 | ||
1.一种焊锡凸块的制造方法,其特征在于,具备:
基底层形成工序,将混合平均粒径5μm以下的焊锡粉末和助焊剂而成的基底形成用浆料涂布于设置在基板上的焊垫上,并进行回流而形成厚度20μm以下的基底层;及
凸块形成工序,将混合与所述基底形成用浆料相比平均粒径更大的焊锡粉末和助焊剂而成的凸块形成用浆料涂布于所述基底层上,并进行回流而在所述焊垫上形成焊锡凸块。
2.根据权利要求1所述的焊锡凸块的制造方法,其特征在于,
所述基底形成用浆料中的所述助焊剂的比率被设定为比所述凸块形成用浆料中的所述助焊剂的比率还要大。
3.根据权利要求1所述的焊锡凸块的制造方法,其特征在于,
所述基底形成用浆料中,所述焊锡粉末的平均粒径为1μm以上5μm以下,助焊剂的比率为20质量%以上40质量%以下,
所述凸块形成用浆料中,所述焊锡粉末的平均粒径大于5μm且为15μm以下,助焊剂的比率为5质量%以上15质量%以下。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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