[发明专利]人造指甲的去除方法、人造指甲组合物、人造指甲、人造指甲的形成方法及美甲试剂盒

说明书

技术领域

本发明涉及一种人造指甲的去除方法、人造指甲组合物、人造指甲、人造指甲的形成方法及美甲试剂盒。

背景技术

近年来，对在手或脚指甲上做设计的美甲的人气高涨，在指甲(自己的指甲)上形成合成树脂制的人造指甲(人工指甲、指甲贴片等)的技术逐渐发展(参考专利文献1)。尤其在最近，出于完成品整洁、与指甲的粘附性较高且持久耐用、没有像丙烯酸系树脂那样的异味等原因，将包含氨酯系树脂和光聚合性单体的凝胶状的装饰用固化性组合物涂布于指甲之后，照射紫外线而使其固化而成的被称作人造指甲的指甲装饰备受瞩目。

在去除该人造指甲时，以往以如下方法为主流：利用粗糙的锉刀(指甲锉)，将人造指甲表面揉搓而产生划痕，使去除液容易渗入之后，将浸泡于丙酮等有机溶剂(去除液)中的棉载置于上述人造指甲上，将其以用铝箔等缠绕的状态放置，使人造指甲溶胀之后，使用木制的刮刀等剥下该溶胀的人造指甲。

并且，作为现有的人造指甲组合物，已知有专利文献1～3中所记载的组合物。

以往技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利公开2004-275736号公报

专利文献2：日本专利公开2000-256134号公报

专利文献3：日本专利公表2002-505915号公报

发明的概要

发明要解决的技术课题

本发明的目的在于提供一种不损害指甲装饰所具有的光泽性等优点且去除时无需使用丙酮而减轻对指尖或指甲的负担的人造指甲的去除方法。本发明的另一目的在于提供一种上述人造指甲的去除方法中所使用的美甲试剂盒及人造指甲组合物、以及使用上述人造指甲组合物的人造指甲。

用于解决技术课题的手段

上述目的通过下述＜1＞、＜15＞、＜17＞、＜22＞至＜24＞中所记载的方法得以实现。以下，与作为优选实施方式的＜2＞至＜14＞、＜16＞、＜18＞至＜21＞一同示出。

＜1＞一种人造指甲的去除方法，其包含以下工序：将人造指甲组合物涂布于人或动物的指甲上或者涂布于支撑体上来形成涂布膜的工序；将上述涂布膜进行干燥和/或曝光来形成人造指甲的工序；及使上述人造指甲与去除液接触来进行去除的去除工序，上述人造指甲组合物含有(成分A)具有烯属不饱和基和酸基的化合物和/或(成分B)具有酸基的聚合物，上述去除液为pH8以上且11以下(优选为8.5～10.9，更优选为8.7～10.8，进一步优选为9～10.7)的水溶液；

＜2＞根据＜1＞所述的人造指甲的去除方法，其中，成分A以下述式(1)表示，

[化学式1]

式(1)中，R¹表示氢原子或1价有机基团，X表示单键或2价连接基团，Z表示酸基。

＜3＞根据＜2＞所述的人造指甲的去除方法，其中，在上述式(1)中，Z为羧酸基；

＜4＞根据＜1＞至＜3＞中任一项所述的人造指甲的去除方法，其中，成分B为丙烯酸系聚合物和/或氨酯系聚合物；

＜5＞根据＜1＞～＜4＞中任一项所述的人造指甲的去除方法，其中，成分B为具有羧酸基的聚合物；

＜6＞根据＜5＞所述的人造指甲的去除方法，其中，上述具有羧酸基的聚合物为含有下述式(2)所示的单体单元的丙烯酸系聚合物；

[化学式2]

式(2)中，R²表示氢原子、甲基或-CH₂Y¹，Y¹表示羟基、卤代基、-OC(＝O)R³或-NR³C(＝O)R⁴，X¹表示-O-或-NR³-，R³、R⁴表示氢原子、碳原子数1～6的烷基或碳原子数6～12的芳基，L¹表示2价连接基团。

＜7＞根据＜5＞所述的人造指甲的去除方法，其中，上述具有羧酸基的聚合物为具有下述式(3)所示的单体单元的氨酯系聚合物；

[化学式3]

式(3)中，L²、L³及L⁴分别独立地表示2价连接基团，W表示N或CR³，R³表示氢原子或1价基团。

＜8＞根据＜1＞～＜7＞中任一项所述的人造指甲的去除方法，其中，上述去除液含有pH缓冲剂；