[发明专利]硬化性组合物、硬化膜、近红外线截止滤波器、照相机模块及这些的制造方法有效
| 申请号： | 201480033162.3 | 申请日： | 2014-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN105308124B | 公开（公告）日： | 2018-07-31 |
| 发明（设计）人： | 荒山恭平;村山哲;高桥秀知 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | C08L101/00 | 分类号： | C08L101/00;C08K5/00;C09D201/00;G02B5/22;H01L27/14 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 陶敏;臧建明 |
| 地址： | 日本东京港区*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 化性 组合 硬化 红外线 截止 滤波器 照相机 模块 制造 方法 | ||
1.一种硬化性组合物，含有近红外线吸收性色素(A)及硬化性化合物(B)，所述硬化性化合物(B)具有选自氟原子、硅原子、碳数8以上的直链烷基及碳数3以上的分支烷基中的一种以上；其中所述硬化性化合物(B)为至少含有下述式(B1)及下述式(B2)所表示的重复单元的聚合物；
式(B1)
式(B2)
式(B1)及式(B2)中，R1～R6分别独立地表示氢原子、烷基或卤素原子，L1及L2分别独立地表示单键或二价连结基，X1表示(甲基)丙烯酰氧基，X2表示经氟原子取代的烷基、经氟原子取代的芳基、烷基硅烷基、芳基硅烷基、含有以下的部分结构(S)的基团、碳数8以上的直链烷基或碳数3以上的分支烷基；
部分结构(S)
*表示与其他原子的键结部位；
所述硬化性组合物中的总固体成分为10质量％～40质量％。
2.一种硬化性组合物，含有近红外线吸收性色素(A)及具有疏水性基的硬化性化合物(B)；其中所述硬化性化合物(B)为至少含有下述式(B1)及下述式(B2)所表示的重复单元的聚合物；
式(B1)
式(B2)
式(B1)及式(B2)中，R1～R6分别独立地表示氢原子、烷基或卤素原子，L1及L2分别独立地表示单键或二价连结基，X1表示(甲基)丙烯酰氧基，X2表示经氟原子取代的烷基、经氟原子取代的芳基、烷基硅烷基、芳基硅烷基、含有以下的部分结构(S)的基团、碳数8以上的直链烷基或碳数3以上的分支烷基；
部分结构(S)
*表示与其他原子的键结部位；
所述硬化性组合物中的总固体成分为10质量％～40质量％。
3.根据权利要求1或2所述的硬化性组合物，其中所述硬化性化合物(B)具有氟原子和/或碳数6以上的分支烷基。
4.根据权利要求1或2所述的硬化性组合物，其中所述硬化性化合物(B)具有选自(甲基)丙烯酰氧基、环氧基、氧杂环丁基、异氰酸基、羟基、氨基、羧基、硫醇基、烷氧基硅烷基、羟甲基、乙烯基、(甲基)丙烯酰胺基、苯乙烯基及马来酰亚胺基中的一种以上的硬化性官能基。
5.根据权利要求4所述的硬化性组合物，其中所述硬化性化合物(B)具有选自(甲基)丙烯酰氧基、环氧基及氧杂环丁基中的一种以上的硬化性官能基。
6.根据权利要求1或2所述的硬化性组合物，其中所述硬化性化合物(B)具有2个以上的硬化性官能基。
7.根据权利要求1或2所述的硬化性组合物，其中在硬化性组合物的总固体成分中，所述硬化性化合物(B)的含量为1质量％～50质量％。
8.根据权利要求1或2所述的硬化性组合物，还含有与所述硬化性化合物(B)不同的硬化性化合物(C)。
9.根据权利要求1或2所述的硬化性组合物，其中所述近红外线吸收性色素(A)的极大吸收波长为700nm～1000nm。
10.根据权利要求1或2所述的硬化性组合物，其中所述近红外线吸收性色素(A)具有疏水性基。
11.根据权利要求1或2所述的硬化性组合物，其中所述近红外线吸收性色素(A)具有CLogP为5.3以上的部位。
12.根据权利要求1或2所述的硬化性组合物，其中所述近红外线吸收性色素(A)具有CLogP为5.3以上的烃基。
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