[发明专利]相位差补偿元件及投射型图像投影装置

权利要求书

1.一种相位差补偿元件，其中具备：

双折射层，由多个斜方蒸镀膜的层叠膜构成，各斜方蒸镀膜的厚度为使用波长以下；以及

相位差赋予防反射层，由折射率不同的2种以上的电介质膜的层叠膜构成，不仅有所述双折射层中的斜入射透射光的相位差，还赋予相位差，

所述相位差赋予防反射层赋予对于所述双折射层中的斜入射透射光的相位差符号相反的相位差。

2.如权利要求1所述的相位差补偿元件，其中，

所述相位差赋予防反射层中，所述电介质膜的各膜厚为λ/100以上λ/2以下，所述电介质膜的层数为8以上1000以下，其中λ为所使用的波长频带的任意的波长。

3.如权利要求2所述的相位差补偿元件，其中，

所述相位差赋予防反射层中，所述电介质膜的膜厚全部不同。

4.如权利要求1所述的相位差补偿元件，其中，

所述相位差赋予防反射层中，具有相对最高的折射率NH的电介质和具有相对最低的折射率NL的电介质的关系，满足0.4＜NH－NL＜1.5。

5.如权利要求1所述的相位差补偿元件，其中，

所述相位差赋予防反射层中，在将具有相对最高的折射率的电介质的膜厚设为tH、将具有相对最低的折射率的电介质的膜厚设为tL时，tL/（tH＋tL）＞0.4。

6.如权利要求1所述的相位差补偿元件，其中，

所述相位差赋予防反射层所赋予的相位差Rd，在所使用的波长频带的任意的波长λ上，在入射光角度0°～25°的范围内为1＜Rd（λ）/Rd（λ'）＜1.5，其中λ'为所使用的波长频带的任意的波长且λ＜λ'。

7.如权利要求1所述的相位差补偿元件，其中，

所述电介质膜是从Ta₂O₅、TiO₂、SiO₂、Al₂O₃、CeO₂、ZrO₂、ZrO、Nb₂O₅中选择的至少1种。

8.如权利要求1所述的相位差补偿元件，其中，

所述双折射层从对于基板法线方向对称的2个方向交替沉积蒸镀材料而成，所述斜方蒸镀膜的每1层的厚度为5nm以上100nm以下。

9.如权利要求1所述的相位差补偿元件，其中，

所述双折射层中，因入射光而产生的相位差具有以形成该双折射层的基体材料面法线方向为中心对称的角度依赖性，成为所述双折射层的相位差的角度依赖性的中心的入射光方向与形成所述相位差赋予防反射层的基体材料面法线方向一致。

10.如权利要求1所述的相位差补偿元件，其中，

所述斜方蒸镀膜是从Ta₂O₅、TiO₂、SiO₂、Al₂O₃、CeO₂、ZrO₂、ZrO、Nb₂O₅中选择的至少1种。

11.如权利要求1所述的相位差补偿元件，其中，

在透明基板上形成由电介质膜构成的应力调整层，所述双折射层形成在所述应力调整层侧。

12.一种投射型图像投影装置，在反射型偏光镜与反射型光调制元件之间配置有相位差补偿元件，所述相位差补偿元件具备：双折射层，由多个斜方蒸镀膜的层叠膜构成，各斜方蒸镀膜的厚度为使用波长以下；以及相位差赋予防反射层，由折射率不同的2种以上的电介质膜的层叠膜构成，赋予对于所述双折射层中的斜入射透射光的相位差符号相反的相位差。

13.如权利要求12所述的投射型图像投影装置，其中，

所述相位差赋予防反射层所赋予的相位差Rd，在所使用的波长频带的任意的波长λ上，在入射光角度0°～25°的范围内为1＜Rd（λ）/Rd（λ'）＜1.5，其中λ'为所使用的波长频带的任意的波长且λ＜λ'。