[发明专利]光学单元和光学分析设备在审
申请号: | 201480033414.2 | 申请日: | 2014-05-22 |
公开(公告)号: | CN105324659A | 公开(公告)日: | 2016-02-10 |
发明(设计)人: | 上村一平 | 申请(专利权)人: | 日本电气方案创新株式会社 |
主分类号: | G01N21/49 | 分类号: | G01N21/49;G01N21/17 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 鲁山;孙志湧 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 单元 分析 设备 | ||
1.一种光学单元,包括:
光发射部,所述光发射部用光照射分析目标;
多个光接收部,所述多个光接收部接收已经被所述分析目标反射或漫射的光;
安装衬底,在所述安装衬底上安装有所述光发射部和所述多个光接收部;以及
板状部件,所述板状部件具有光学透明性,
其中,所述板状部件被布置为以便覆盖安装在所述安装衬底上的所述光发射部和所述多个光接收部,并且
分别设定所述光发射部、所述光接收部和所述板状部件的位置,使得在所述分析目标与所述板状部件接触的情况下,从所述光发射部出射的光在被所述分析目标反射或漫射后,入射在两个或更多个所述光接收部上。
2.根据权利要求1所述的光学单元,包括:
多个所述光发射部,所述多个光发射部被安装在所述安装衬底上,
其中,分别设定所述光发射部、所述光接收部和所述板状部件的位置,使得在所述分析目标与所述板状部件接触的情况下,从所述光发射部中的每个出射的光在被所述分析目标反射或漫射后,入射在两个或更多个所述光接收部上。
3.根据权利要求1或2所述的光学单元,
其中,每个光发射部包括被布置为使得出射表面面向所述板状部件的发光元件,和被提供为以便围绕所述出射表面的遮光壁,并且
所述光接收部每个均包括被布置为使得光接收表面面向所述板状部件的光接收元件,和被提供为以便围绕所述光接收表面的遮光壁。
4.根据权利要求1到3中的任一项所述的光学单元,其中,每个光发射部在所述发光元件与所述安装衬底之间包括用于将在所述发光元件中产生的热传输到所述安装衬底的热传输部件。
5.根据权利要求1到4中的任一项所述的光学单元,其中,设定每个光发射部的遮光壁和每个光接收部的遮光壁中的每个的高度,以便匹配所述板状部件与所述安装衬底之间的距离。
6.根据权利要求1到5中的任一项所述的光学单元,进一步包括:
冷却元件,
其中,所述冷却元件被布置为以便与所述安装衬底的没有安装所述多个光发射部和所述多个光接收部的表面接触。
7.根据权利要求1到6中的任一项所述的光学单元,其中,所述多个光接收部中的每个在所述光接收表面的入射侧包括仅透射具有设定波长的光的光学滤波器。
8.根据权利要求2所述的光学单元,其中,所述多个光发射部被安装在所述安装衬底上,以便分别围绕所述安装衬底上的任意点。
9.根据权利要求8所述的光学单元,
其中,所述多个光发射部由出射的光的峰值波长互不相同的多个组构成,并且,所述多个组中的每个具有峰值波长相同的两个光发射部,并且
属于相同组的所述两个光发射部被安装在穿过所述任意点彼此相对的位置处。
10.根据权利要求2所述的光学单元,其中,所述多个光发射部以所述多个光发射部被线性地布置的状态被安装在所述安装衬底上。
11.一种用于分析被包括在分析目标内的特定成分的光学分析设备,所述设备包括:
光学单元,所述光学单元包括用光照射所述分析目标的光发射部、接收已经被所述分析目标反射或漫射的光的多个光接收部、安装有所述光发射部和所述多个光接收部的安装衬底,以及具有光学透明性的板状部件,
其中,所述板状部件被布置为以便覆盖安装在所述安装衬底上的所述光发射部和所述多个光接收部,并且
分别设定所述光发射部、所述光接收部和所述板状部件的位置,使得在所述分析目标与所述板状部件接触的情况下,从所述光发射部出射的光在被所述分析目标反射或漫射后,入射在两个或更多个所述光接收部上。
12.根据权利要求11所述的光学分析设备,包括:
多个所述光发射部,所述多个所述光发射部被安装在所述安装衬底上,
其中,分别设定所述光发射部、所述光接收部和所述板状部件的位置,使得在所述分析目标与所述板状部件接触的情况下,从所述光发射部中的每个出射的光在被所述分析目标反射或漫射后,入射在两个或更多个所述光接收部上。
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