[发明专利]用于制造化合物的防积垢蒸馏塔和方法

权利要求书

1.一种用于制造化合物的防积垢系统，其包含：

反应物加热区；以及

与所述反应物加热区流体联通的蒸馏塔；

其中

所述蒸馏塔包含多个蒸馏塔盘用于从所述化合物去除副产物，

至少20％所述多个蒸馏塔盘是布置成交错配置的挡扳塔盘，

各塔盘与所述蒸馏塔的内壁接触的部分与位于所述塔盘上方和所述塔盘下方的塔盘接触的部分不同，以及

所述挡扳塔盘安置于所述蒸馏塔的下部中,

其中挡扳塔盘占据其在所述蒸馏塔中的位置处的所述蒸馏塔的截面面积的55％到90％，以及

其中所述蒸馏塔中的生产能力塔产出率降低小于维护间隔期之间最大生产率的20％；

其中所述挡扳塔盘不是筛板塔盘。

2.根据权利要求1所述的防积垢系统，其中所述挡扳塔盘的边缘或边缘的一部分包含粒子保留配置。

3.根据权利要求1到2中任一项所述的防积垢系统，其中所述加热区为与所述蒸馏塔整合的组合加热/反应区。

4.根据权利要求1到2中任一项所述的防积垢系统，其中所述加热区为与所述蒸馏塔流体联通的反应器。

5.根据权利要求1到2中任一项所述的防积垢系统，其中所述蒸馏塔中的压差小于100dP单位。

6.根据权利要求1到2中任一项所述的防积垢系统，其中所述蒸馏塔中的压差为6dP单位到100dP单位。

7.一种用于制造化合物的防积垢方法，所述方法包含：

在加热区中加热反应物产生蒸气相；

在蒸馏塔中蒸馏所述蒸气相，所述蒸馏塔与所述加热区流体联通；其中

所述蒸馏塔包含多个蒸馏塔盘用于从所述反应物和所述化合物去除副产物，

至少20％所述多个蒸馏塔盘是布置成交错配置的挡扳塔盘，

各塔盘与所述蒸馏塔的内壁接触的部分与位于所述塔盘上方和所述塔盘下方的塔盘接触的部分相对，以及

所述挡扳塔盘安置于所述蒸馏塔的下部中；

从所述蒸馏塔分离和去除粗化合物、反应的水、未反应的原料以及副产物；以及

从所述蒸馏塔回收所述化合物，

其中挡扳塔盘占据其在所述蒸馏塔中的位置处的所述蒸馏塔的截面面积的55％到90％，以及其中所述蒸馏塔中的生产能力塔产出率降低小于维护间隔期之间最大生产率的20％；

其中所述挡扳塔盘不是筛板塔盘。

8.根据权利要求7所述的防积垢方法，其中所述蒸馏塔中的压差小于100dP单位。