[发明专利]能量存储的方法和装置

权利要求书

1.一种装置，所述装置包括第一和第二电极、第一和第二集电体、电解质以及第一接触层；其中所述电解质被配置为分隔所述第一和第二电极；并且其中所述第一接触层被配置为在所述第一集电体与所述第一电极之间形成电气接触。

2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述装置包含第二接触层，并且其中所述第二接触层被配置为在所述第二电极与第二集电体之间形成电气接触。

3.根据权利要求1所述的装置，其中，所述第一和第二电极中的一种或两种包含至少一种：活性碳、石墨烯、石墨烯片、银纳米线网、硅纳米线、碳纳米管以及金属氧化物。

4.根据权利要求1所述的装置，其中，所述电解质包含聚合物电解质。

5.根据权利要求1所述的装置，其中，所述第一和第二所述集电体中的至少一种包含铝或铜。

6.根据权利要求1所述的装置，其中，所述第一接触层包含一种或多种铜、银、金以及铂。

7.根据权利要求1所述的装置，其中，所述第一接触层包含平均颗粒尺寸在0.1与10微米之间的多样性的颗粒。

8.根据权利要求1所述的装置，其中，所述第一接触层具有在10与20微米之间的平均厚度。

9.根据权利要求1所述的装置，其中，所述装置为电池、超级电容器或混合电池-电容器。

10.一种包括权利要求1所述的装置的设备。

11.根据权利要求10所述的设备，其中，所述设备为以下的至少一种：电子设备、便携式电子设备、便携式电信设备以及用于任何前文描述的设备的模块。

12.一种方法，所述方法包括：在第一集电体上沉积第一接触层；在所述第一接触层上沉积第一电极；在第二集电体之上沉积第二电极；以及在所述第一与第二电极之间沉积电解质，以形成包括通过所述电解质分隔的所述第一与第二电极的装置；其中将所述第一接触层配置为在所述第一集电体与所述第一电极之间形成电气接触。

13.根据权利要求12所述的方法，其中，在所述第二集电体之上沉积所述第二电极包含在所述第二集电体上沉积所述第二电极。

14.根据权利要求12所述的方法，其中，所述方法进一步包含在所述第二集电体上沉积第二接触层，并且其中在所述第二集电体之上沉积所述第二电极包含在已经被沉积在所述第二集电体上的所述第二接触层上沉积所述第二电极。