[发明专利]具有基于发射场图案的图案化表面特征的LED

权利要求书

1.一种发光设备，包括：

发光元件，包括：

Ｎ型区，

Ｐ型区，

夹在Ｎ型区与Ｐ型区之间的发光层，以及

在平行于发光层的平面中并且从发光层发射的光从其出射的逸出表面；

其中：

在具有角度发射场图案的发光元件内发射光，所述角度发射场图案具有基本上与发光层非正交的峰值发射角度处的至少一个波瓣，并且

逸出表面包括表面特征，所述表面特征包括垂直于波瓣角度的斜坡表面，

其中表面特征包括在逸出表面的平面以上延伸的结构，以及在表面的平面以下延伸的凹陷；并且

其中在逸出表面的平面以上延伸的结构和在表面的平面以下延伸的凹陷隔行设置。

2.权利要求1的发光设备，其中斜坡表面与外部介质之间的界面展现出其外部的光被全内反射的逸出区段，并且斜坡布置成最大化撞击逸出区段内的斜坡表面的光的量。

3.权利要求1的发光设备，其中发射场图案包括多个波瓣，至少一个波瓣对应于峰值发射角度，并且基于峰值发射角度来布置斜坡。

4.权利要求3的发光设备，包括其它表面特征，所述其它表面特征包括具有对应于发光元件的发射场图案的其它波瓣的其它斜坡的其它斜坡表面。

5.权利要求1的发光设备，包括反射体，所述反射体朝向逸出表面反射来自发光层的光，并且布置成使得发射场图案取决于反射体与发光层之间的距离。

6.权利要求1的发光设备，其中表面特征包括圆锥特征。

7.权利要求1的发光设备，其中表面特征包括角锥特征。

8.权利要求1的发光设备，其中表面特征布置在表面上使得没有表面特征的斜坡表面直接面向相邻表面特征的任何斜坡表面。

9.权利要求1的发光设备，其中表面特征的每一个斜坡表面面向相邻表面特征的边缘。

10.权利要求1的发光设备，其中逸出表面的部分被粗糙化。

11.权利要求1的发光设备，其中表面特征在逸出表面上随机分布。

12.一种制造发光设备的方法，包括：

确定与发光元件相关联的发射场图案，发光元件包括光从其从发光元件发射的逸出表面，所述发射场图案具有基本上与逸出表面非正交的峰值发射角度处的至少一个波瓣，

确定一个或多个表面特征，每一个表面特征包括垂直于波瓣角度的至少一个斜坡表面，以及

在发光元件的逸出表面上创建一个或多个表面特征中的多个，

其中表面特征包括在逸出表面的平面以上延伸的结构，以及在表面的平面以下延伸的凹陷；并且

其中在逸出表面的平面以上延伸的结构和在表面的平面以下延伸的凹陷隔行设置。

13.权利要求12的方法，其中创建多个表面特征包括蚀刻、碾磨和激光切分中的至少一个。

14.权利要求12的方法，其中多个表面特征包括圆锥结构。

15.权利要求12的方法，其中多个表面特征包括角锥结构。

16.权利要求12的方法，其中表面特征布置在表面上使得没有表面特征的斜坡表面直接面向相邻表面特征的任何斜坡表面。

17.权利要求12的方法，其中斜坡表面与外部介质之间的界面展现出其外部的光被全内反射的逸出区段，并且斜坡布置成最大化撞击逸出区段内的斜坡表面的光的量。