[发明专利]针对多通道磁带记录头中的写入器串扰的补偿有效

专利信息
申请号: 201480035739.4 申请日: 2014-03-19
公开(公告)号: CN105340013B 公开(公告)日: 2019-05-14
发明(设计)人: C·帕蒂;K·迈基斯特里 申请(专利权)人: 甲骨文国际公司
主分类号: G11B20/10 分类号: G11B20/10;G11B5/008
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 陈新
地址: 美国加*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 针对 通道 磁带 记录 中的 写入 器串扰 补偿
【说明书】:

在至少一个实施例中,提供了一种数据存储系统。该系统包括控制器,控制器被配置为确定要施加到第一写入元件以在磁带上写入第一数据的电流的方向,并且确定要施加到磁头上的多个邻近的写入元件中的每一个以在磁带上写入对应数据的电流的方向。控制器还被配置为对要施加到第一写入元件的电流的方向与要施加到多个邻近的写入元件的电流的方向进行比较。控制器还被配置为响应于对要施加到第一写入元件的电流的方向与要施加到多个邻近的写入元件中的每一个的电流的方向的比较,控制第一写入元件写入第一数据。

技术领域

本文所公开的各种方面一般涉及与磁带关联使用的数据存储系统。

背景技术

随着磁带上的数据磁道变窄,正确跟踪磁头相对于磁带的位置的挑战显著地增大。一个关注因素涉及磁带尺寸稳定性。一个缓解磁带尺寸稳定性的有效方法是使记录磁头上的通道(或数据磁道)排列得更紧凑。但是,当写入元件的位置彼此更靠近时,这些元件在写入操作期间可能会彼此电磁干扰。一个接收电子指令以在磁道上写入特定的数据模式的写入元件可能会经历来自邻近的写入元件的电磁干扰(EMI)状况(或“串扰”),从而改变数据模式(通常是劣化)。这样的串扰可能会限制写入元件的位置相对于彼此的接近度。

串扰可以通过以下的方式被量化:(i)当所有的写入元件在磁带上写入相同的数据模式时,获得维特比(Viterbi)质量度量(VQM)的测量结果,(ii)当所有的写入元件写入不同的数据模式时,获得VQM的另一个测量结果,以及(iii)将这两个VQM测量结果(即,当写入相同的数据模式时的VQM测量结果与当写入不同的数据模式时的VQM测量结果)相互比较。VQM测量结果通常在0到1之间,其中较大的值通常表示较好的通道质量。

在一个示例中,在具有42.6μ的通道间距(channel pitch)的驱动器上获得了VQM测量结果,其中数据模式要么抑制串扰(例如,所有通道上被写入相似的数据模式)要么促进串扰(例如,所有通道被写入不同的数据模式)。对于促进串扰的数据模式,观察到测得的VQM大约降低0.1。另外,已知的是,在写入操作期间产生的串扰对于小通道间距上的写入器可能会引起显著的转变偏移,如“Crosstalk Between Write Transducers”,R.G.Biskeborn,P.Herget和P.O.Jubert,IEEE Trans Mag 44,No.11,November 2008,p.3625中所公开的。

磁带尺寸稳定性通常对应于这样的概念,即,保持精确的磁道或通道间隔,以使得磁道上不留下空的空间或数据不被写入先前已被写过的对应磁道上。虽然小的通道间距可以缓解磁带尺寸稳定性的影响,但在这样的通道间距下产生的串扰可能较大。

在存在串扰的情况下,来自写入元件的磁场可以建模为磁场以1/d3降低的偶极子,其中d是到写入元件的距离。通常地,如果各个写入元件彼此相距足够远,则磁场降低(例如,1/d3)很大,并且随之出现的在多个写入元件之间的串扰较小。但是,如果写入元件的位置彼此更接近,则这样的写入元件之间的串扰增大。如果写入元件之间的间隔缩小一半,则预期将看到八倍大的串扰。鉴于以上描述,希望的是消除在写入操作期间由写入元件产生的串扰。

发明内容

在至少一个实施例中,提供了一种数据存储系统。所述系统包括控制器,控制器被配置为确定施加到第一写入元件以在磁带上写入第一数据的电流的方向,并且确定施加到多个邻近的写入元件中的每一个以在磁带上写入对应数据的电流的方向。控制器还被配置为对施加到第一写入元件的电流的方向与施加到多个邻近的写入元件的电流的方向进行比较。控制器还被配置为响应于对施加到第一写入元件的电流的方向与施加到每个邻近的写入元件的电流的方向的比较,控制第一写入元件写入第一数据。

附图说明

在所附的权利要求中以特定方式指出了本公开的各种实施例。但是通过结合附图参考以下的详细描述,各种实施例的其他特征将变得更清晰并且将被最佳地理解。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于甲骨文国际公司,未经甲骨文国际公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201480035739.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top