[发明专利]耳蜗植入物的快速适配

权利要求书

1.一种耳蜗植入物适配系统，所述耳蜗植入物适配系统用于将具有多个电极接触的植入式耳蜗植入物电极阵列适配于被植入患者，所述系统包括：

用于将一个或多个电极接触指派给多个不同的适配响应测量方法中的每个方法，以使得所述多个电极接触的每一个只被指派一个适配响应测量方法的装置；

对于每个适配响应测量方法执行以下的装置：

i：使用所述适配响应测量方法来适配所指派的电极接触，以及

ii：基于所述所指派的电极接触的适配，来插值未指派的电极接触的适配值；以及

用于基于对所述多个不同的适配响应测量方法的所述适配的加权平均，来对所述电极阵列中的每个电极接触进行适配的装置。

2.根据权利要求1所述的系统，其中，被指派到每个适配响应测量方法的所述一个或多个电极接触是不相邻的。

3.根据权利要求2所述的系统，其中，所述适配响应测量方法包括一个或多个客观适配响应测量方法。

4.根据权利要求2所述的系统，其中，所述适配响应测量方法包括一个或多个主观适配响应测量方法。

5.根据权利要求2所述的系统，其中，所述适配响应测量方法包括客观适配响应测量方法和主观适配响应测量方法两者。

6.根据权利要求2所述的系统，其中，顺序刺激策略被用于所述电极接触。

7.根据权利要求2所述的系统，其中，并行刺激策略被用于所述电极接触。

8.根据权利要求2所述的系统，其中，所述被植入患者具有带有左侧和右侧电极阵列的双侧植入物布置，由此在两个电极阵列中的所述电极接触都被进行适配。

9.一种用于将具有多个电极接触的植入式耳蜗植入物电极阵列适配于被植入患者的方法，所述方法包括：

将一个或多个电极接触指派给多个不同的适配响应测量方法中的每个方法，以使得所述多个电极接触的每一个只被指派一个适配响应测量方法；

对于每个适配响应测量方法：

i：使用所述适配响应测量方法适配所指派的电极接触，以及

ii：基于所述所指派的电极接触的所述适配，来插值未指派的电极接触的适配值；以及

基于对所述多个不同适配响应测量方法的所述适配的加权平均，对所述电极阵列中的每个电极接触进行适配。

10.根据权利要求9所述的方法，其中，被指派到每个适配响应测量方法的所述一个或多个电极接触是不相邻的。

11.根据权利要求9所述的方法，其中，所述适配响应测量方法包括一个或多个客观适配响应测量方法。

12.根据权利要求9所述的方法，其中，所述适配响应测量方法包括一个或多个主观适配响应测量方法。

13.根据权利要求9所述的方法，其中，所述适配响应测量方法包括客观适配响应测量方法和主观适配响应测量方法两者。

14.根据权利要求9所述的方法，其中，顺序刺激策略被用于所述电极接触。

15.根据权利要求9所述的方法，其中，并行刺激策略被用于所述电极接触。

16.根据权利要求9所述的方法，其中，所述被植入患者具有带有左侧和右侧电极阵列的双侧植入物布置，由此在两个电极阵列中的所述电极接触都被进行适配。