[发明专利]光刻设备、用于光刻设备和方法中的定位系统

权利要求书

1.一种光刻设备，具有参考体(202)和定位系统(200)，所述定位系统(200)包括：

主体(204)；

反作用体(206)；

致动器(208)；以及

控制器(210)；

其中主体(204)能够在第一方向(+z)和第二方向(-z)上沿一路径相对于参考体(202)移动，其中第一方向(+z)与第二方向(-z)相反，

其中反作用体(206)能够在第一方向(+z)和第二方向(-z)上沿另一个路径相对于主体(204)移动，

其中反作用体(206)与参考体(202)以能够移动的方式连接，以便能够在第一方向(+z)和第二方向(-z)上相对于参考体(202)移动，

其中控制器(210)被设置为给致动器(208)提供第一信号和第二信号，

其中致动器(208)被设置在主体(204)和反作用体(206)之间，并设置成在第一信号的控制下使主体(204)沿第一方向(+z)加速并使反作用体(206)沿第二方向(-z)加速，并且

设置成在第二信号的控制下使主体(204)沿第二方向(-z)加速并使反作用体(206)沿第一方向(+z)加速，

其中控制器(210)被设置为在给致动器(208)提供第一信号之后当反作用体(206)沿所述另一个路径在第二方向(-z)上移动时给致动器(208)提供第二信号。

2.如权利要求1所述的光刻设备，其中参考体(202)和与参考体(202)连接的反作用体(206)形成具有本征模式的动态系统，

其中本征模式以反作用体(206)至少部分沿第一方向(+z)和第二方向(-z)相对于参考体(202)的移动为特征，

其中本征模式具有对应的周期，并且

其中控制器(210)被设置为以第一信号和第二信号之间具有时长的方式提供第一信号和第二信号，其中该时长由所述对应的周期确定。

3.如权利要求1-2中任一项所述的光刻设备，其中反作用体(206)包括反作用质量块(214)和柔性元件(212)，其中柔性元件(212)以能够移动的方式将反作用质量块(214)与参考体(202)连接。

4.如权利要求2所述的光刻设备，其中反作用体(206)包括反作用质量块(214)和柔性元件(212)，其中柔性元件(212)以能够移动的方式将反作用质量块(214)与参考体(202)连接，柔性元件(212)是能够调节的，以便选定对应的周期。

5.如权利要求1-2中任一项所述的光刻设备，包括用于将辐射束(B)投影在衬底(W)上的投影系统(PS)，其中主体(204)为投影系统(PS)的一部分。

6.如权利要求1所述的光刻设备，其中定位系统(200)包括用于给控制器(210)提供传感器信号的传感器，所述传感器信号表示何时反作用体(206)正在沿所述另一个路径在第二方向(-z)上移动。