[发明专利]使用充电元件、模板和过滤器用于选择性沉积纳米管的装置

权利要求书

1.一种装置(100)，该装置包括：

腔室(110)；

入口(120)，该入口用于允许分散在流体中的纳米级微粒进入该腔室；

模板膜片(170)，该模板膜片包含纳米孔并且被构造为使得，在使用中，穿过该模板膜片的纳米级微粒被选择性地沉积在基板(180)上，该基板邻近于所述模板膜片而被接纳；

充电元件(130)，该充电元件延伸跨越所述腔室并且位于所述入口和所述模板膜片之间，使得在使用中，该充电元件能够将电荷施加在被容许进入所述腔室的所述纳米级微粒上；以及

过滤器元件(140)，该过滤器元件延伸跨越所述腔室并且位于所述充电元件和所述模板膜片之间，使得在使用中，第一电信号被施加至所述过滤器元件使得所述纳米级微粒被吸引到所述过滤器元件，

其中，所述过滤器元件是能够被打开或关闭的通断过滤器，使得能够选择通过所述过滤器元件的所述纳米级微粒的长度。

2.如权利要求1所述的装置，其中，在使用中，所述基板能够相对于所述模板膜片移动。

3.如权利要求1或2所述的装置，其中，在使用中，进入所述腔室中的所述纳米级微粒包括碳纳米管。

4.如权利要求1或2所述的装置，其中，该装置进一步包括第一充电板和第二充电板，所述第一充电板位于所述入口处并且所述第二充电板位于所述基板处。

5.如权利要求4所述的装置，其中，在使用中，所述第一充电板和第二充电板被启动，使得电场产生作用以从所述入口朝向所述基板推动被容许的纳米级微粒。

6.如权利要求1或2所述的装置，其中，在使用中，第二电信号被施加至所述过滤器元件以使所述纳米级微粒穿过所述过滤器元件。

7.如权利要求1或2所述的装置，其中，所述模板膜片包含多个模板区域。

8.如权利要求7所述的装置，其中，所述多个模板区域被接纳在由绝缘材料形成的框架内。

9.如权利要求7所述的装置，其中，电信号能够被选择性地施加至所述多个模板区域中的一个或多个模板区域。