[发明专利]高锰酸盐基转化涂料组合物

权利要求书

1.一种用于施用到金属基底上的组合物，该组合物包含：

载体；

高锰酸盐阴离子源；和

包含金属阳离子的腐蚀抑制剂，该金属阳离子包括稀土离子、碱金属离子、碱土金属离子和/或过渡金属离子。

2.根据权利要求1的组合物，其中该高锰酸盐阴离子源包括碱金属高锰酸盐和/或碱土金属高锰酸盐。

3.根据权利要求1的组合物，其中该高锰酸盐阴离子源包括高锰酸钾。

4.根据权利要求1的组合物，其进一步包含氧化剂。

5.根据权利要求4的组合物，其中该氧化剂包括过氧化氢。

6.根据权利要求1的组合物，其进一步包含唑类化合物。

7.根据权利要求6的组合物，其中该唑类化合物包括2,5-二巯基-1,3,4-噻二唑、1H-苯并三唑、1H-1,2,3-三唑、2-氨基-5-巯基-1,3,4-噻二唑、和/或2-氨基-1,3,4-噻二唑。

8.根据权利要求1的组合物，其中该载体包括含水载体。

9.一种制品，其包含：

基底；和

在该基底的至少一部分上的权利要求1的组合物。

10.权利要求9的制品，其中该基底包括铝。

11.权利要求9的制品，其进一步包含在该组合物的至少一部分上的涂层。

12.一种处理基底的方法，该方法包括：

将包含权利要求1的组合物的第一组合物施用到基底上，来形成经高锰酸盐处理的表面；和

将第二组合物施用到该经高锰酸盐处理的表面上，该第二组合物包含锂源和第二载体。

13.根据权利要求12的方法，其中该高锰酸盐阴离子源包括碱金属高锰酸盐和/或碱土金属高锰酸盐。

14.根据权利要求12的方法，其中该高锰酸盐包括高锰酸钾。

15.根据权利要求12的方法，其中该锂源包括碳酸锂、氢氧化锂、和/或磷酸锂。

16.根据权利要求12的方法，其中该第二载体包括含水载体。

17.根据权利要求12的方法，其进一步包括在将该第一组合物施用到该基底上之前，将脱脂组合物和/或脱氧组合物施用到该基底上。

18.根据权利要求12的方法，其中该含锂组合物进一步包含唑类化合物。

19.根据权利要求18的方法，其中该唑类化合物包括2,5-二巯基-1,3,4-噻二唑、1H-苯并三唑、1H-1,2,3-三唑、2-氨基-5-巯基-1,3,4-噻二唑、和/或2-氨基-1,3,4-噻二唑。

20.一种处理基底的方法，该方法包括：

将清洁组合物施用到该基底上，来形成清洁的基底；

将包含高锰酸盐阴离子源和第一载体的第一组合物施用到该清洁的基底上，来形成经高锰酸盐处理的基底；和

将第二组合物施用到该经高锰酸盐处理的基底上，该第二组合物包含锂源和第二载体。

21.权利要求20的方法，其进一步包括在施用该第一组合物之前，冲洗该清洁的基底。

22.权利要求20的方法，其进一步包括在施用该第二组合物之前，冲洗该经高锰酸盐处理的基底。

23.权利要求20的方法，其中该第二组合物进一步包含指示剂化合物和/或唑类化合物。

24.权利要求23的方法，其中该唑类化合物包括2,5-二巯基-1,3,4-噻二唑、1H-苯并三唑、1H-1,2,3-三唑、2-氨基-5-巯基-1,3,4-噻二唑、和/或2-氨基-1,3,4-噻二唑。

25.权利要求20的方法，其中将该清洁组合物施用到该基底上包括将酸性清洁组合物施用到该基底上和/或将碱性清洁组合物施用到该基底上。