[发明专利]水处理方法以及水处理系统

权利要求书

1.一种水处理方法，其包括如下的工序：

水垢防止剂供给工序，在该水垢防止剂供给工序中，向包含Ca离子、SO₄离子以及碳酸离子的被处理水供给钙水垢防止剂，所述钙水垢防止剂防止包含钙的水垢析出；

脱盐工序，该脱盐工序在所述水垢防止剂供给工序之后，将所述被处理水分离为浓缩水与处理水，所述浓缩水浓缩有所述Ca离子、所述SO₄离子以及所述碳酸离子；

析晶工序，在该析晶工序中，向所述浓缩水供给石膏的晶种，从而石膏从所述浓缩水中析晶；

pH计测工序，在该pH计测工序中，对所述析晶工序中的所述浓缩水的pH进行计测；以及

供给量控制工序，在该供给量控制工序中，在所述计测出的pH处于所述钙水垢防止剂的水垢防止功能降低的pH范围内的情况下，使所述石膏的晶种的供给量降低，在所述计测出的pH比所述pH范围高的情况下，使所述石膏的晶种的供给量增大。

2.根据权利要求1所述的水处理方法，其中，

在所述析晶工序之后包括分离工序，在该分离工序中，将所述石膏从所述浓缩水中分离，在所述分离工序中分离出的所述石膏被用作所述石膏的晶种。

3.根据权利要求1或2所述的水处理方法，其中，

在所述析晶工序之后包括浓度计测工序，在该浓度计测工序中，对所述浓缩水中的所述Ca离子的浓度与硫酸离子的浓度中的至少一方进行计测，

所述供给量控制工序根据在所述浓度计测工序中计测出的所述Ca离子的浓度与硫酸离子的浓度中的至少一方，来控制所述石膏的晶种的供给量。

4.一种水处理系统，其具备：

水垢防止剂供给部，其向包含Ca离子、SO₄离子以及碳酸离子的被处理水供给钙水垢防止剂，所述钙水垢防止剂防止包含钙的水垢析出；

脱盐部，其设置在所述水垢防止剂供给部的下游侧，且将所述被处理水分离为浓缩水与处理水，所述浓缩水浓缩有所述Ca离子、所述SO₄离子以及所述碳酸离子；

析晶部，其设置在所述脱盐部的下游侧，且具有使石膏从所述浓缩水中析晶的析晶槽与向所述析晶槽供给石膏的晶种的晶种供给部；

pH计测部，其对所述析晶槽内的所述浓缩水的pH进行计测；以及

控制部，在由所述pH计测部计测出的pH处于所述钙水垢防止剂的水垢防止功能降低的pH范围内的情况下，所述控制部使所述石膏的晶种的供给量降低，在由所述pH计测部计测出的pH比所述pH范围高的情况下，所述控制部使所述石膏的晶种的供给量增大。

5.根据权利要求4所述的水处理系统，其中，

在所述析晶部的下游侧具备分离部，所述分离部将所述石膏从所述浓缩水中分离，由所述分离部分离出的所述石膏被用作所述石膏的晶种。

6.根据权利要求4或5所述的水处理系统，其中，

在所述析晶部的下游侧具备浓度计测部，所述浓度计测部对所述浓缩水中的所述Ca离子的浓度与硫酸离子的浓度中的至少一方进行计测，

所述控制部根据由所述浓度计测部计测出的所述Ca离子的浓度与硫酸离子的浓度中的至少一方，来控制所述石膏的晶种的供给量。