[发明专利]反射型光掩模及其制造方法

权利要求书

1.一种反射型光掩模，其具有：

基板；

形成在该基板上的多层反射膜，该多层反射膜反射平版印刷用的曝光光，该曝光光包含波长5nm以上15nm以下的光；

形成在该多层反射膜上的吸收膜，该吸收膜吸收所述曝光光且同时形成有电路图案或者电路图案形成预定区域中的一者，其中在所述电路图案形成预定区域中形成电路图案；

在所述电路图案或者所述电路图案形成预定区域中的一者的外周侧，通过除去所述基板上的所述多层反射膜和所述吸收膜的一部分而形成的遮光区域，该遮光区域遮蔽由所述多层反射膜反射的所述曝光光的一部分；以及

在该遮光区域的露出的所述基板的表面的一部分上以3000nm以下的间距形成的多个凸部，该多个凸部抑制所述曝光光所含的入射到所述遮光区域的带外光的反射，所述带外光具有140nm以上800nm以下的波长。

2.根据权利要求1所述的反射型光掩模，其特征在于，所述凸部从所述吸收膜侧向所述基板侧扩径形成。

3.根据权利要求1或2所述的反射型光掩模，其特征在于，所述凸部的侧面为曲面。

4.一种反射型光掩模的制造方法，其特征在于包含以下步骤：

在基板上层叠多层反射膜的步骤，该多层反射膜反射平版印刷用的曝光光，该曝光光包含波长5nm以上15nm以下的光；

在所述层叠的多层反射膜上层叠吸收膜的步骤，该吸收膜吸收所述曝光光且同时形成有电路图案或者电路图案形成预定区域中的一者，其中在所述电路图案形成预定区域中形成电路图案；

在所述电路图案或者所述电路图案形成预定区域中的一者的外周侧，通过除去所述基板上的所述多层反射膜和所述吸收膜的一部分而形成遮蔽由所述多层反射膜反射的所述曝光光的一部分的遮光区域的步骤；以及

在所述形成的遮光区域的露出的所述基板的表面的一部分上形成多个凸部的步骤，该多个凸部抑制所述曝光光所含的具有140nm以上800nm以下的波长的带外光的反射。

5.根据权利要求4所述的反射型光掩模的制造方法，其特征在于，一体地实行形成所述遮光区域的处理和形成所述多个凸部的处理，从而同时进行所述基板的表面的露出与所述凸部的形成。