[发明专利]狭槽式模具涂布方法、设备和基底

权利要求书

1.用于在基底(1)上制造图案化涂布层的狭槽式模具涂布方法，所述方法包括：

-提供包括基底表面(1s)的所述基底(1)；

-提供包括流出开口(2a)的狭槽式模具涂布头(2)，使用时，涂布流体(3f)从所述流出开口(2a)流出，其中所述流出开口(2a)形成狭缝，使用时，所述狭缝沿狭缝方向(Y)布置在所述基底表面(1s)上方；

-控制所述流出开口(2a)和所述基底表面(1s)之间沿横向于所述狭缝方向(Y)的涂布方向(X)的相对运动；

-控制所述涂布流体(3f)从所述狭槽式模具涂布头(2)到所述基底表面(1s)上的间歇性传输(T)，以通过所述间歇性传输(T)在所述基底表面(1s)上提供被未涂布区域(3u)分隔开的涂布区域(3c)；其中

-所述基底表面(1s)包括具有高表面能量区域(4h)和低表面能量区域(4l)的预图案化层(4)；其中所述涂布流体(3f)在所述基底表面(1s)上的接触角在所述高表面能量区域(4h)中比在所述低表面能量区域(4l)中小；其中所述低表面能量区域(4l)与所述高表面能量区域(4h)之间的边界(4hl，4lh)沿所述狭缝方向(Y)布置；并且其中所述方法进一步包括：

-将所述间歇性传输(T)与所述流出开口(2a)在所述低表面能量区域(4l)与所述高表面能量区域(4h)之间的所述边界(4hl，4lh)上方的经过同步化，其中当所述流出开口(2a)经过高表面能量区域(4h)上方时传输被启用(T＝1)，并且其中当所述流出开口(2a)经过低表面能量区域(4l)上方时传输被禁用(T＝0)。

2.根据权利要求1所述的方法，其中同步化所述间歇性传输(T)包括：

-设置所述流出开口(2a)在所述基底表面(1s)上方的沿所述涂布方向(X)传输被中断(T＝1→0)的位置与从高表面能量区域(4h)到低表面能量区域(4l)的边界(4hl)之间的第一偏置(Xhl)；和/或

-设置所述流出开口(2a)在所述基底表面(1s)上方的沿所述涂布方向(X)传输被恢复(T＝0→1)的位置与从低表面能量区域(4l)到高表面能量区域(4h)的边界(4lh)之间的第二偏置(Xlh)。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述第一和/或第二偏置(Xlh，Xhl)通过中断或恢复所述涂布流体的传输被调整以使所述涂布区域(3c)的层厚度变化最小化。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述传输在所述流出开口(2a)即将经过从低表面能量区域(4l)到高表面能量区域(4h)的边界(4lh)之前或刚刚经过从低表面能量区域(4l)到高表面能量区域(4h)的边界(4lh)之后被设置为恢复(T＝0→1)。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述传输在所述流出开口(2a)即将经过从高表面能量区域(4h)到低表面能量区域(4l)的边界(4hl)之前或刚刚经过从高表面能量区域(4h)到低表面能量区域(4l)的边界(4hl)之后被设置为中断(T＝1→0)。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述涂布流体(3f)从所述狭槽式模具涂布头(2)到所述基底表面(1s)上的所述间歇性传输(T)通过下述方式控制：

-增大所述流出开口(2a)与所述基底表面(1s)之间的距离(Z)以中断传输(T＝1→0)；以及

-减小所述流出开口(2a)与所述基底表面(1s)之间的距离(Z)以恢复传输(T＝0→1)。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述狭槽式模具涂布头(2)倾斜一角度以从所述流出开口(2a)提供沿流出方向(3x)的流出，所述流出方向(3x)相对于重力方向(G)具有大于90度平面角的角度(θ)。

8.根据权利要求1所述的方法，其中

-所述预图案化层(4)包括具有与高表面能量区域(4h)的沿所述涂布方向(X)的平行边界(4s)的低表面能量区域(4l)；

-一个或多个垫片(2s)被布置在所述流出开口(2a)中，将所述流出开口(2a)分隔为多个狭缝(2as)；其中

-所述一个或多个垫片(2s)与所述平行边界(4s)对准，以阻止所述涂布流体(3f)从所述狭槽式模具涂布头(2)到所述基底表面(1s)上的在具有与高表面能量区域(4h)的沿所述涂布方向(X)的平行边界(4s)的所述低表面能量区域(4l)处的传输(T)。