[发明专利]复眼摄像装置

说明书

提供即使由于透镜阵列以及支架伴随环境条件的变化而变形而产生传感器阵列上的各单眼像的位置偏差的情况下也能够迅速且良好地进行图像处理的复眼摄像装置。图像处理电路(80)至少基于与第一位置(T1)和第二位置(T2)的差异相关的信息、以及表示伴随着透镜阵列(10)的环境条件的变化的变形的程度的信息，执行图像处理。对例如伴随环境条件等的变化而产生的传感器阵列(60)上的各单眼像的位置的变化、即与传感器阵列(60)上的光学像对应而得到的图像的位置的变化进行校正。由此，即使在从透镜部(10a)的光轴(OA)方向看时的透镜阵列(10)以及支架(50)的变形中心不一致，也能够迅速且准确地掌握传感器阵列(60)上的各单眼像的位置偏差，能够相对于环境条件的变化进行良好的图像处理。

技术领域

本发明涉及包含具有二维排列的多个透镜部的透镜阵列的复眼摄像装置。

背景技术

近年的对于摄像光学系统的薄型化的要求非常高。为了对其进行应对，进行了与基于光学设计的全长缩短或伴随于此的误差灵敏度增大对应的制造精度提高，但为了应对进一步的薄型化的要求，通过以往的一个光学系统和摄像元件来得到像的方法变得不充分。

因此，为了应对对薄型化的要求而关注被称为复眼光学系统的光学系统，该光学系统是在对摄像元件的检测区域进行分割，并以对应于每一个的方式配置光学系统，对所得到的图像进行处理从而进行最终的图像输出的复眼摄像装置中使用的光学系统。但是，在包含复眼光学系统的摄像装置中，根据环境温度等环境条件的变化而摄像装置的透镜部的排列间距等发生变化，所以需要对其进行应对，例如考虑通过图像处理来进行解决。

作为进行图像处理的复眼摄像装置的一例，记载了在透镜阵列和摄像元件之间配置了与各透镜对应而开矩形的孔的遮光壁的摄像装置，将遮光壁设为遵从周围温度的变化所导致的透镜阵列的形状变化那样的形状或材质，从向能够在单眼像间获取遮光壁的影子的摄像元件入射的亮度信息取得反映了遮光壁的位置的二值图像，基于此来计算伴随着周围温度的变化的遮光壁的歪斜量而进行校正(参照专利文献1)。

但是，根据本发明人们的研究，判明了仅着眼于透镜阵列或遮光壁的变形，则存在不能充分应对环境温度等环境条件的变化的情况。认为这是因为通常透镜阵列以与摄像元件对置的方式被支架(Holder)保持，但该支架由于环境条件而变形等引起摄像元件上的各单眼像的位置变化在外观上变得复杂从而变得不能准确地应对环境条件的变化。更详细而言，使伴随着环境条件的变化的支架的变形中心和透镜阵列的变形中心一致实际上是困难的，所以认为伴随环境条件的变化而产生的透镜部相对于摄像元件的偏移变得复杂。在上述专利文献1中，使用遮光壁的影子的位置来间接地掌握伴随着温度变化的透镜阵列的变形，但遮光壁的影子的位置易于由于光源的状态或摄像装置的使用环境等而受到影响从而检测结果易于变得不稳定。此外，难以使遮光壁和摄像元件密接，被投影到摄像元件上的遮光壁的影子易于变得模糊。从而，存在不能准确地求得遮光壁的位置、特别是四角的位置的顾虑。此外，在专利文献1中，根据遮光壁的变形而间接地估计透镜阵列的变形，因此不能准确地掌握透镜阵列的变形、以及对透镜阵列进行保持的框体的变形。从而，在专利文献1的摄像装置中，难以高精度地实现根据通过各个透镜部而成像的相同的视野的图像得到一个高分辨率的图像的超分辨处理(超解像処理)、以及各个透镜部的视差的计算。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：(日本)特开2011－147079号公报

发明内容

本发明的目的在于，提供即使在透镜阵列以及支架由于环境条件的变化而变形而产生传感器阵列上的各单眼像的位置偏差的情况下也能够迅速且良好地进行图像处理的复眼摄像装置。