[发明专利]消光色调转印膜及使用了该转印膜的成型品

说明书

本发明的目的在于提供在对被转印体进行热转印时可以减少在硬涂层上产生裂纹、且廉价的消光色调转印膜。本发明的消光色调转印膜(100)为在基材膜(1)的一个表面上至少依次具有脱模层(2)、硬涂层(3)及粘接层(4)的转印膜，其中，使脱模层(2)为用有机硅改性丙烯酸聚氨酯树脂形成且含有填料的层。

技术领域

本发明涉及消光色调转印膜及使用了该转印膜的成型品，更详细地说涉及适于工业制品的装饰的消光色调转印膜及使用了该转印膜的成型品。

背景技术

一直以来，对主要是塑料成型品的装饰方法中，作为涂饰等直接的装饰方法的代替，利用使用了转印膜的热转印法。这种转印膜多数为了获得高表面硬度的成型品而成为设有硬涂层的构成。例如，上述转印膜一般来说是在基材膜的一个表面上依次层叠有脱模层、硬涂层、装饰层、粘接层的构成。

作为使用上述转印膜热转印至被转印体的方法，例如有在与注塑成型的同时对硬涂层/装饰层/粘接层进行转印的方法(模内注塑成型法)、利用热轧辊的热压将硬涂层/装饰层/粘接层转印至被转印体的方法、在真空或压缩空气下或者利用加热机转印至被转印体的方法等。

这里，对脱模层要求在对被转印体(塑料成型品等)进行热转印时、赋予自硬涂层的良好剥离性的功能。进而还要求不会发生形成硬涂层时的涂布液涂覆时的硬涂层用涂布液的涂膜凹陷(再涂性)、具有可耐受转印时的热的耐热性、与基材膜或基底的密合强、可以追随被转印体的形状(拉伸性)等性能。

作为构成该脱模层的材料，例如有胶带的涂膜剂中多使用的有机硅或氟树脂等。但是，这些材料具有形成在脱模层上的硬涂层形成用涂布液在涂覆时易于发生涂膜凹陷的问题。

作为上述问题的解决对策，脱模层多使用三聚氰胺树脂、特别是丙烯酸三聚氰胺树脂。

然而，在工业制品中、特别是为电子设备的筐体时，为了防止表面的刺眼或赋予高级感，多要求使成型品的表面为消光色调。为了使用上述转印膜使成型品表面为消光色调，例如有时使转印膜的脱模层中含有填料(例如二氧化硅、氧化铝、碳酸钙等)、从而在脱模层中形成微细的凹凸。如此，可以在剥离后的硬涂层上形成微细的凹凸、使成型品表面为消光色调(专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2004-122756号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

在工业制品的装饰中使用转印膜时，由于转印膜必须能够追随成型品的形状，因此要求高的拉伸性。但是，为了使成型品表面为消光色调，当在三聚氰胺树脂的脱模层中放入填料时，有该拉伸性丧失、成型品表面产生裂纹的问题。另外，当在三聚氰胺树脂的脱模层中放入填料时，在热转印时与PET膜的密合特别地降低、PET膜与脱模层的界面处发生剥离的问题也很多。作为这种密合不良的改善对策，一般是在PET膜上设置易粘接层来确保密合，但设置易粘接层使制造成本增高，不优选。

本发明要解决这种问题，其目的在于提供在向被转印体进行热转印时可以减少在硬涂层上产生裂纹、且廉价的消光色调转印膜。

用于解决技术问题的方法

本发明为了解决上述课题进行了深入研究，通过以下的手段得以达成。

本发明的一个方式为一种消光色调转印膜，其特征在于，其为在基材膜的一个表面上至少依次具有脱模层、硬涂层及粘接层的转印膜，其中，使所述脱模层为由有机硅改性丙烯酸聚氨酯树脂形成且含有填料的层。

另外，上述消光色调转印膜中，还可以由至少丙烯酸多元醇酯树脂、含羟基的丙烯酸硅树脂与异氰酸酯化合物的交联反应来生成所述有机硅改性丙烯酸聚氨酯树脂。

另外，上述消光色调转印膜中，还可以在所述脱模层中进一步含有含羟基的纤维素衍生物。