[发明专利]用于光片显微技术的设备有效

专利信息
申请号: 201480038895.6 申请日: 2014-07-08
公开(公告)号: CN105359025B 公开(公告)日: 2019-01-25
发明(设计)人: J.西本摩根;T.卡尔克布伦纳;H.利珀特 申请(专利权)人: 卡尔蔡司显微镜有限责任公司
主分类号: G02B21/06 分类号: G02B21/06;G02B21/16;G02B21/36;G02B21/34;G01N21/03
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 侯宇
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 显微 技术 设备
【权利要求书】:

1.一种用于光片显微技术的设备,包括:

-用于容纳位于介质(2)中的样本(3)的样本容器(1),其中,所述样本容器(1)相对于由样本台(4)限定的平面形的参照面被对齐,

-具有照明物镜(6)的照明光学系统,用于以光片照明样本(3),其中,照明物镜(6)的光学轴线(7)与光片位于这样的平面中,该平面与所述参照面的法线围成不等于0的照明角度β,

-具有检测物镜(8)的检测光学系统,所述检测物镜(8)的光学轴线(9)与所述参照面的法线围成不等于0的检测角度δ,其特征在于,

-所述设备包括具有一个或多个厚度预定且材料预定的层的、用于将样本(3)位于其中的所述介质(2)与所述照明物镜(6)和所述检测物镜(8)空间分离的分离层系统,其中,该分离层系统以平行于所述参照面的边界面(11)至少在对于所述照明物镜(6)和所述检测物镜(8)为照明和检测可到达的区域中接触所述介质(2)。

2.根据权利要求1所述的用于光片显微技术的设备,其特征在于,所述照明物镜(6)的数值孔径NAB小于所述检测物镜(8)的数值孔径NAD,并且所述照明角度β大于所述检测角度δ,或者所述照明物镜(6)和所述检测物镜(8)构建为相同的并且所述照明角度β等于所述检测角度δ,其中,所述照明角度β与所述检测角度δ之和总是为90°。

3.根据权利要求1所述的用于光片显微技术的设备,其特征在于,所述照明光学系统和/或所述检测光学系统包括校正装置,用于减小由于照明光和/或待测光倾斜穿过所述分离层系统的边界面(11,13)而导致的像差。

4.根据权利要求3所述的用于光片显微技术的设备,其特征在于,所述校正装置包括在所述照明物镜(6)和/或所述检测物镜(8)中的校正元件。

5.根据权利要求4所述的用于光片显微技术的设备,其特征在于,所述校正透镜构建为圆柱形透镜、相对于所述光学轴线(7,9)倾斜的透镜和/或非轴向布置的透镜(14,15),并且所述校正元件构建为具有非球形表面或者自由形状表面的元件。

6.根据权利要求3所述的用于光片显微技术的设备,其特征在于,所述校正装置包括布置在照明光路和/或检测光路中的、用于操纵照明和/或检测光的相位波前的适配光学元件。

7.根据权利要求6所述的用于光片显微技术的设备,其特征在于,所述适配光学元件包括可变形镜(16、17)、空间光调制器或者相位板。

8.根据权利要求1所述的用于光片显微技术的设备,其特征在于,所述分离层系统包括封闭样本容器(1)的、材料预定且厚度预定的、板状或薄膜状的盖部(12),其中,所述板状或薄膜状的盖部(12)的第一大表面与所述介质(2)至少在对于所述照明物镜(6)和所述检测物镜(8)为照明和检测可到达的区域中几乎完全接触,并且所述盖部的第二大表面与作为所述分离层系统的其它部件的气体或者浸没介质至少在对于所述照明物镜(6)和所述检测物镜(8)为照明和检测可到达的区域中接触。

9.根据权利要求8所述的用于光片显微技术的设备,其特征在于,所述盖部(12)的材料具有这样的折射率,该折射率与所述样本(3)位于其中的所述介质(2)的折射率相差在5%以下。

10.根据权利要求9所述的用于光片显微技术的设备,其特征在于,所述样本(3)位于其中的所述介质(2)是水,并且所述盖部(12)的材料是PTFE、FEP、 AF或者全氟二氧戊环聚合物。

11.根据权利要求9或10所述的用于光片显微技术的设备,其特征在于,所述盖部(12)是由无定形聚合物构成的,其玻璃化转变温度被设置为使得该聚合物在冷却状态下具有所述样本(3)位于其中的所述介质(2)的折射率。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于卡尔蔡司显微镜有限责任公司,未经卡尔蔡司显微镜有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201480038895.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top