[发明专利]用于后处理气化过程产生的含碳底部产物的方法及装置

权利要求书

1.一种用于对在HTW工艺的含碳化石燃料的气化过程中产生的含碳底部产物进行后处理的方法，所述含碳底部产物位于流化床重力方向的下方，其特征在于：

通过在底部产物氧化器(2)中装载开孔陶瓷元件(15-20)以供应氧化剂，其中所述开孔陶瓷元件包括透气砖或陶瓷泡沫。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：

通过圆锥形元件(15)将部分所述氧化剂引入从流化床排出的所述底部产物中，所述圆锥形元件固定在底部产物进入氧化器(2)的供给位置的下方。

3.根据权利要求1和2中任意一项所述的方法，其特征在于：

通过截头圆锥形透气砖(16，18)将至少部分所述氧化剂引入待处理的底部产物中，所述截头圆锥形透气砖并排布置并且中间留有间隙。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于：

对于截头圆锥形透气砖(18)的情况，所述氧化剂由圆锥形的端面和侧面引入。

5.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于：

所采用的氧化剂为O2/蒸汽或O2/CO2。

6.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于：

在所述HTW气化炉下游的底部产物氧化器(2)中，在至少两个平面(12)供应所述氧化剂。

7.一种用于将氧化剂引入HTW气化炉内产生的底部产物中的装置，其中所述装置构成所述HTW气化炉的底部，其特征在于：

在底部产物氧化器(2)中提供至少一个包含多个透气砖(16，18)的穿孔平面。

8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于：

所述装置设有用于引入氧化剂的开孔陶瓷元件。

9.根据权利要求7和8中任一项所述的装置，其特征在于：

所述装置配备有至少一个测量设备，用于监测所述底部产物的含碳量。

10.根据权利要求9所述的装置，其特征在于：

将所述测量设备设置为非接触式测量。

11.根据权利要求7所述的装置，其特征在于：所述装置为底部产物氧化器(2)。

12.根据权利要求8所述的装置，其特征在于：所述开孔陶瓷元件为透气砖(18)。

13.根据权利要求12所述的装置，其特征在于，所述开孔陶瓷元件为截头圆锥形透气砖，所述接头圆锥形透气砖具有透气性的端面以及透气性的侧面。

14.根据权利要求9所述的装置，其特征在于，所述测量设备用于控制排放装置。

15.根据权利要求10所述的装置，其特征在于，

所述测量设备通过微波进行测量。