[发明专利]适于实施高电阻性测量电极的电容式控制界面设备和方法

权利要求书

1.一种用于检测透明测量区中的至少一个感兴趣的对象的界面设备，包括：

-检测表面，所述检测表面在第一层上设置有由透明电阻性材料形成的多个电容式测量电极，

-电子器件和处理装置，所述电子器件和处理装置包括能够在第一交流激励电势下极化所述测量电极的激励装置和能够测量所述测量电极与所述至少一个感兴趣的对象之间的电容耦合的测量装置，

-由透明导电材料制成的防护元件，所述防护元件至少沿着所述测量电极的与所述透明测量区相对的面被设置在所述测量电极附近，并在参考所述第一交流激励电势的交流防护电势下被极化，

-电连接轨迹，所述电连接轨迹由所述透明电阻性材料形成并被至少部分地设置在所述测量电极之间的所述检测表面的第一层上，并以将所述测量电极连接到所述电子器件和处理装置的方式被布置，

其特征在于所述激励装置在考虑形成在相同第一层上的所述透明电阻性测量电极和所述电连接轨迹的情况下被配置，以生成具有激励频率的所述第一交流激励电势，使得电容耦合到至少一个感兴趣的对象的所述测量电极及其电连接轨迹具有在所述激励频率下其电阻部分远低于电抗部分的模量的电阻抗。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述激励频率小于1kHz。

3.根据权利要求1或2所述的设备，进一步包括能够将所述测量电极选择性地连接到所述测量装置的开关装置。

4.根据权利要求1所述的设备，其中所述电连接轨迹由ITO制成。

5.根据权利要求1或2所述的设备，其中所述电连接轨迹以使得所述测量电极电连接到被设置在所述检测表面的周边处的电连接轨迹的方式被设置在所述检测表面上。

6.根据权利要求5所述的设备，其中所述测量电极以矩阵布置分布在所述检测表面上，并且所述电连接轨迹以使得每个测量电极单独连接到电连接轨迹的方式被布置。

7.根据权利要求1或2所述的设备，其中所述检测表面上的所述电连接轨迹具有足够窄的宽度，使得所述检测表面上的所述电连接轨迹的表面积相比于所述测量电极的表面积能够忽略不计。

8.根据权利要求1或2所述的设备，其中所述检测表面上的所述电连接轨迹具有小于100μm的宽度。

9.根据权利要求1或2所述的设备，其中所述测量装置至少部分地参考所述激励电势。

10.一种用于检测透明测量区中的至少一个感兴趣的对象的方法，所述方法实现：

-检测表面，所述检测表面在第一层上设置有由透明电阻性材料形成的多个电容式测量电极，

-电子器件和处理装置，所述电子器件和处理装置包括激励装置和测量装置，

-由透明导电材料制成的防护元件，所述防护元件至少沿着所述测量电极的与所述测量区相对的面被设置在所述测量电极附近，和

-电连接轨迹，所述电连接轨迹由所述透明电阻性材料形成并被至少部分地设置在测量电极之间的所述检测表面的第一层上，并以将所述测量电极连接到所述电子器件和处理装置的方式被布置，

所述方法包括以下步骤：

-在第一交流激励电势下极化所述测量电极，

-在参考所述第一交流激励电势的交流防护电势下极化所述防护元件，

-测量至少一个测量电极和至少一个感兴趣的对象之间的电容耦合，其特征在于所述方法包括如下步骤：在考虑形成在相同第一层上的所述电容式测量电极和所述电连接轨迹的情况下生成具有激励频率的所述第一交流激励电势，所述激励频率足够低，使得电容耦合到所述至少一个感兴趣的对象的所述测量电极及其电连接轨迹具有在所述激励频率下其电阻部分远低于电抗部分的模量的电阻抗。