[发明专利]外延反应器

权利要求书

1.一种外延反应器，包括：

反应腔室；

基座，所述基座位于所述反应腔室中以使得晶片坐落在所述基座上；以及

气体流动控制器，所述气体流动控制器用于控制引入到所述反应腔室中的气体流动，

其中，所述气体流动控制器包括：

注射帽，所述注射帽具有多个出口用以分开所述气体流动；

注射缓冲器，所述注射缓冲器具有与相应的出口相对应的第一通孔，以使得从所述出口排出的气体流过所述第一通孔；以及

挡板，所述挡板具有与相应的第一通孔相对应的第二通孔，以使得流过所述第一通孔的气体流过所述第二通孔，以及

其中所述注射帽包括形成在所述注射帽的一个表面中的空腔，且所述空腔由侧壁和底部构成；以及

所述注射帽的另一表面和所述空腔的底部之间的空间分隔成所述注射帽的第一至第三部分，且所述注射帽的所述第一至第三部分彼此隔离，以及

其中所述出口设置在所述空腔的底部中，且所述注射缓冲器和所述挡板按序地插入到所述空腔中以使得所述第一和第二通孔面向所述空腔的底部。

2.如权利要求1所述的外延反应器，其特征在于，还包括：

插入件，所述插入件包括多个彼此隔离的部段，以使得流过所述第二通孔的气体流过所述部段，

其中，每个第一通孔与对应一个部段对准。

3.如权利要求2所述的外延反应器，其特征在于，还包括：衬套，所述衬套具有阶梯状部分以将流过各所述部段的气体引导至所述反应腔室。

4.如权利要求2所述的外延反应器，其特征在于，每个部段所具有的开口面积均大于每个第一通孔的开口面积和每个第二通孔的开口面积并且小于每个出口的开口面积。

5.如权利要求1所述的外延反应器，其特征在于，

每个第一通孔的所具有的面积大于每个第二通孔的面积并且小于每个出口的面积。

6.如权利要求1所述的外延反应器，其特征在于，所述挡板的一个表面与所述注射缓冲器相接触，且所述挡板的另一表面与所述注射帽的一个表面齐平。

7.如权利要求1所述的外延反应器，其特征在于，每个第二通孔的面积与相关联第一通孔的面积的比值是1：5至1:20。

8.如权利要求2所述的外延反应器，其特征在于，与相应部段相对应的第二通孔的数量大于与相应部段相对应的第一通孔的数量。

9.如权利要求2所述的外延反应器，其特征在于，所述部段各自与对应于相关联的第一通孔的第二通孔对准。

10.如权利要求2所述的外延反应器，其特征在于，所述第一通孔沿所述注射缓冲器的纵向方向间隔地设置。

11.如权利要求2所述的外延反应器，其特征在于，所述第二通孔沿所述挡板的纵向方向间隔地设置。

12.如权利要求1所述的外延反应器，其特征在于，每个第一通孔均具有100mm²至200mm²的开口面积。

13.如权利要求1所述的外延反应器，其特征在于，每个第二通孔均具有10mm²至20mm²的开口面积。

14.如权利要求1所述的外延反应器，其特征在于，所插入的注射缓冲器和挡板的外周缘面压抵于所述空腔的内表面。