[发明专利]铬表面的阴极腐蚀保护方法

权利要求书

1.用于铬表面的阴极腐蚀保护方法，所述方法包括以下顺序的步骤：

（i）提供基材，所述基材具有铬表面和至少一个在基材和铬表面之间的中间层，所述中间层选自镍、镍合金、铜和铜合金，

（ii）将所述基材与包含至少一种根据式I.-VI.的含磷化合物的水溶液接触，

其中R选自H、未被取代的直链或支链C₁-C₂₀-烷基、未被取代的直链或支链C₁-C₆-烷芳基和未被取代的芳基，R1、R2和R3可以相同或不同且独立选自H、NH₄⁺、Li⁺、Na⁺、K⁺、未被取代的直链或支链C₁-C₂₀-烷基、未被取代的直链或支链C₁-C₆-烷芳基和未被取代的芳基，且其中n为1-15范围的整数，

同时使电流通过所述基材、至少一个阳极和所述水溶液，其中所述基材用作阴极，

且由此在所述铬表面上形成腐蚀保护层。

2.根据权利要求1的阴极腐蚀保护方法，其中所述至少一种含磷化合物选自根据式II.和V.的化合物，其中R选自正辛基、正壬基、正癸基、正十一烷基、正十二烷基、正十三烷基、正十四烷基、正十五烷基、正十六烷基、正十七烷基、正十八烷基、未被取代的支链C₈-C₁₈烷基残基，且其中R2和R3为H或选自Li⁺、Na⁺、K⁺和NH₄⁺的合适的反荷离子。

3.根据前述权利要求中任一项的阴极腐蚀保护方法，其中所述至少一种含磷化合物选自根据式II.的化合物，其中所述含磷化合物的R选自正辛基、正壬基、正癸基、正十一烷基、正十二烷基、正十三烷基、正十四烷基、正十五烷基、正十六烷基、正十七烷基、正十八烷基，且其中R2和R3为H或独立选自Li⁺、Na⁺、K⁺和NH₄⁺的合适的反荷离子。

4.根据前述权利要求中任一项的阴极腐蚀保护方法，其中所述至少一种含磷化合物在所述水溶液中的浓度范围为0.0001-0.5mol/l。

5.根据前述权利要求中任一项的阴极腐蚀保护方法，其中通过所述基材的电流的范围为0.005-5A/dm²。

6.根据前述权利要求中任一项的阴极腐蚀保护方法，其中所述水溶液在步骤（ii）期间保持在20-80℃范围的温度下。

7.根据前述权利要求中任一项的阴极腐蚀保护方法，其中所述基材在步骤（ii）中与所述水溶液接触10-900s。

8.根据前述权利要求中任一项的阴极腐蚀保护方法，其中所述至少一个阳极由选自不锈钢、铂或镀铂钛的材料制得。

9.根据前述权利要求中任一项的阴极腐蚀保护方法，其中所述水溶液还包含至少一种提高所述至少一种含磷化合物的溶解度的添加剂。

10.根据权利要求8的阴极腐蚀保护方法，其中提高所述至少一种含磷化合物的溶解度的所述至少一种添加剂为聚醚化合物。