[发明专利]用于差分相衬成像装置的X射线管的阳极有效
申请号: | 201480041331.8 | 申请日: | 2014-07-22 |
公开(公告)号: | CN105393331B | 公开(公告)日: | 2017-03-22 |
发明(设计)人: | R·K·O·贝林 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 |
主分类号: | H01J35/10 | 分类号: | H01J35/10;G21K1/02 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人: | 李光颖,王英 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 差分相衬 成像 装置 射线 阳极 | ||
1.一种用于X射线管(37)的阳极(39),包括:
阳极盘(41),其包括圆形焦点轨迹区域(51),所述圆形焦点轨迹区域适于在加速电子撞击时在横向于所述电子的撞击方向(63)的发射方向(65)上发射X射线(5);
环状调制吸收栅格(55);
其中,所述调制吸收栅格包围所述焦点轨迹区域;
其中,所述调制吸收栅格包括X射线吸收材料的壁部分(57),所述壁部分被布置为吸收从所述焦点轨迹区域在所述发射方向上发射的X射线;
其中,所述调制吸收栅格包括在相邻壁部分之间的狭缝(67),所述狭缝沿所述调制吸收栅格的圆周方向以小于100μm的间隔(s)被布置,并且所述狭缝在所述周边方向上具有小于50μm的宽度(ws)。
2.根据权利要求1所述的阳极,其中,所述阳极盘和所述调制吸收栅格被集成在单件中。
3.根据权利要求1和2中的任一项所述的阳极,其中,所述狭缝是纵向的,具有基本垂直于所述阳极盘的邻接表面(71)的纵轴。
4.根据权利要求1至3中的任一项所述的阳极,其中,所述调制吸收栅格中的所述狭缝是等距布置的。
5.根据权利要求1至4中的任一项所述的阳极,其中,所述调制吸收栅格包括加强结构以对所述壁部分进行机械加强对抗形变,所述加强结构至少部分地桥接所述狭缝并适于具有比所述壁部分小至少50%的X射线吸收。
6.一种X射线管,包括:
电子源(43);
电子加速和聚焦装置(45);
根据权利要求1至4中的任一项所述的阳极(37);
其中,所述电子源适于生成自由电子;
其中,所述电子加速和聚焦装置适于使所述自由电子在所述撞击方向(63)上加速,并适于在将所述自由电子聚焦在所述阳极的所述圆形焦点轨迹区域(51)上的焦斑(53)中;并且
其中,电子加速和聚焦装置和所述阳极适于使得所述焦斑具有比所述调制吸收栅格(55)中的相邻狭缝(67)之间的间隔(s)更大的宽度(wf)。
7.根据权利要求6所述的X射线管,其中,所述狭缝是纵向的,具有基本平行于所述撞击方向的纵轴。
8.根据权利要求6和7中的任一项所述的X射线管,其中,所述阳极适于围绕旋转轴(61)旋转,并且其中,所述狭缝是纵向的,具有基本平行于所述旋转轴的纵轴。
9.一种差分相衬成像装置(1),包括:
根据权利要求6至8中的任一项所述的X射线管(37);
X射线探测器(23);
第一栅格(15);
第二栅格(19);
其中,所述X射线管和所述X射线探测器被布置在检查体积(11)的相对侧处;并且
其中,所述第一栅格和所述第二栅格被布置在所述检查体积与所述X射线探测器之间。
10.根据权利要求9所述的装置,其中,所述第一栅格和所述第二栅格都被固定在相对于所述X射线探测器的静止位置处。
11.根据权利要求9和10中的任一项所述的装置,还包括X射线管控制单元(75)和X射线探测器评估单元(77),
所述X射线管控制单元适于控制所述X射线管的所述阳极的旋转速度,并且
所述X射线探测器评估单元适于从所述X射线管控制单元接收关于所述X射线管的所述阳极的所述旋转速度和旋转相位中的至少一个的旋转信息,并且适于从所述X射线探测器接收成像数据并基于所述旋转信息来处理所述成像数据。
12.根据权利要求9至11中的任一项所述的装置,其中,所述X射线探测器评估单元包括具有多个寄存器(79)的多路分用器单元(83)。
13.根据权利要求12所述的装置,其中,所述X射线探测器评估单元适于取决于所述旋转信息在所述多个寄存器中的一个中对所述成像数据的信号进行分类和累积。
14.根据权利要求13所述的装置,其中,所述X射线探测器评估单元适于以小于100ns的采样率对所述成像数据的信号进行采样。
15.根据权利要求9至14中的任一项所述的装置,其中,所述X射线探测器包括光子计数探测器像素。
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