[发明专利]用于轴密封系统的填料密封件的活性表面有效

专利信息
申请号: 201480041535.1 申请日: 2014-07-22
公开(公告)号: CN105453185B 公开(公告)日: 2018-02-06
发明(设计)人: 佐伊·特比 申请(专利权)人: 阿利发NP有限公司
主分类号: G21C15/243 分类号: G21C15/243;F16J15/34;G21D1/04
代理公司: 中国商标专利事务所有限公司11234 代理人: 宋义兴,周伟明
地址: 法国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 密封 系统 填料 密封件 活性 表面
【权利要求书】:

1.一种用于密封核反应堆的主电机驱动泵单元的轴,以在主回路(8)与大气(9)之间提供密封的一系统的流体静力学填料密封件,其特征在于,所述流体静力学填料密封件具有一活性表面(10,11),该活性表面(10,11)具有由一排凹凸(14)构造的至少一个表面(12),每个凹凸(14)均具有在10nm与5μm之间的横向尺寸(D1,D4,D6),每个凹凸(14)均具有在10nm与5μm之间的高度(H1,H2,H3),两个连续的凹凸(14)之间的距离(D2,D3,D5)在10nm与5μm之间,所述凹凸(14)是孔(13)或柱(15)。

2.根据权利要求1所述的流体静力学填料密封件,其中所述柱(15)具有小于2的形状因数。

3.根据权利要求1或2所述的流体静力学填料密封件,其中所述凹凸是横向尺寸在10nm与1μm之间,高度在10nm与1μm之间的纳米级凹凸,在两个连续凹凸之间的距离在10nm与1μm之间。

4.根据权利要求1或2所述的流体静力学填料密封件,其中所述凹凸是横向尺寸在1μm与5μm之间,高度在1μm与5μm之间的微米级凹凸,两个连续凹凸之间的距离在1μm与5μm之间。

5.根据权利要求1或2所述的流体静力学填料密封件,其中所述活性表面的表面通过一排微米级凹凸(17)所微构造和纳构造,所述微米级凹凸(17)的横向尺寸和高度在500nm与5μm之间,在两个微米级凹凸(17)之间的距离在500nm与5μm之间,微米级凹凸(17)由纳米级凹凸(22)所构造,所述纳米级凹凸(22)的横向尺寸和高度在10nm与200nm之间,两个相邻的纳米级凹凸(22)之间的距离在10nm与200nm之间。

6.一种防止用于密封核反应堆的主电机驱动泵的轴的系统的填料密封件的活性表面(10,11)的粘附的方法,包括构造活性表面的表面(12),以在所述活性表面的表面上实现一排凹凸的步骤,每个凹凸均具有10nm与5μm之间的横向尺寸和10nm与5μm之间的高度,两个连续凹凸之间的距离在10nm与5μm之间。

7.根据权利要求6所述的方法,进一步包括沉积用于防止在所述活性表面的表面上的粘附的保护层的步骤,所述保护层由以下材料中的一种制成:SiC、TiN、CrN、Ni、微或毫微级晶体金刚石。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于阿利发NP有限公司,未经阿利发NP有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201480041535.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top