[发明专利]表面处理铜箔、附载体铜箔、基材、树脂基材、印刷配线板、覆铜积层板及印刷配线板的制造方法在审

专利信息
申请号: 201480041583.0 申请日: 2014-07-24
公开(公告)号: CN105408524A 公开(公告)日: 2016-03-16
发明(设计)人: 古曳伦也 申请(专利权)人: JX日矿日石金属株式会社
主分类号: C25D7/06 分类号: C25D7/06;B32B15/08;C25D1/04;H05K1/09;H05K3/18
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人: 程伟;王锦阳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 表面 处理 铜箔 载体 基材 树脂 印刷 线板 覆铜积层板 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种表面处理铜箔,在铜箔上形成有表面处理层,该表面处理层表面的粒子相当面积比为0.1~0.85。

2.一种表面处理铜箔,在铜箔上形成有表面处理层,该表面处理层表面的粒子相当面积比为0.1~0.7。

3.一种表面处理铜箔,在铜箔上形成有表面处理层,该表面处理层表面的粒子的平均径为0.03~0.28μm。

4.一种表面处理铜箔,在铜箔上形成有表面处理层,该表面处理层表面的粒子的平均径为0.05~0.28μm。

5.一种表面处理铜箔,在铜箔上形成有表面处理层,该表面处理层表面的粒子的个数密度为3.8~430个/μm2

6.一种表面处理铜箔,在铜箔上形成有表面处理层,该表面处理层表面的粒子的个数密度为3.8~16.0个/μm2

7.一种表面处理铜箔,于将表面处理铜箔自表面处理层侧贴合在树脂基材,然后将该表面处理铜箔去除时,该树脂基材的该铜箔去除侧表面的白部平均为0.07~0.23μm。

8.一种表面处理铜箔,于将表面处理铜箔自表面处理层侧贴合在树脂基材,然后将该表面处理铜箔去除时,该树脂基材的该铜箔去除侧表面的白部平均为0.14~0.23μm。

9.一种表面处理铜箔,于将表面处理铜箔自表面处理层侧贴合在树脂基材,然后将该表面处理铜箔去除时,该树脂基材的该铜箔去除侧表面的最大白部为0.704~0.88μm。

10.一种表面处理铜箔,于将表面处理铜箔自表面处理层侧贴合在树脂基材,然后将该表面处理铜箔去除时,该树脂基材的该铜箔去除侧表面的白部自较大者起10点的平均为0.15~0.457μm。

11.一种表面处理铜箔,于将表面处理铜箔自表面处理层侧贴合在树脂基材,然后将该表面处理铜箔去除时,该树脂基材的该铜箔去除侧表面的白部自较大者起10点的平均为0.20~0.457μm。

12.一种表面处理铜箔,于将表面处理铜箔自表面处理层侧贴合在树脂基材,然后将该表面处理铜箔去除时,该树脂基材的该铜箔去除侧表面的黑部平均为0.035~0.20μm。

13.一种表面处理铜箔,于将表面处理铜箔自表面处理层侧贴合在树脂基材,然后将该表面处理铜箔去除时,该树脂基材的该铜箔去除侧表面的黑部平均为0.05~0.20μm。

14.一种表面处理铜箔,于将表面处理铜箔自表面处理层侧贴合在树脂基材,然后将该表面处理铜箔去除时,该树脂基材的该铜箔去除侧表面的黑部平均为0.07~0.20μm。

15.一种表面处理铜箔,于将表面处理铜箔自表面处理层侧贴合在树脂基材,然后将该表面处理铜箔去除时,该树脂基材的该铜箔去除侧表面的最大黑部为0.180~0.605μm。

16.一种表面处理铜箔,于将表面处理铜箔自表面处理层侧贴合在树脂基材,然后将该表面处理铜箔去除时,该树脂基材的该铜箔去除侧表面的最大黑部为0.355~0.605μm。

17.一种表面处理铜箔,于将表面处理铜箔自表面处理层侧贴合在树脂基材,然后将该表面处理铜箔去除时,该树脂基材的该铜箔去除侧表面的黑部自较大者起10点的平均为0.06~0.335μm。

18.一种表面处理铜箔,于将表面处理铜箔自表面处理层侧贴合在树脂基材,然后将该表面处理铜箔去除时,该树脂基材的该铜箔去除侧表面的黑部自较大者起10点的平均为0.13~0.335μm。

19.根据权利要求1至18中任一项所述的表面处理铜箔,其中,于将表面处理铜箔自表面处理层侧贴合在树脂基材,然后将该表面处理铜箔去除时,该树脂基材的该铜箔去除侧表面的白部比例为55~68%。

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