[发明专利]总氧化性物质浓度的测定方法、基板清洗方法以及基板清洗系统

权利要求书

1.总氧化性物质浓度的测定方法，该方法是电解硫酸的总氧化性物质浓度的测定方法，

其特征在于，使用以与所述电解硫酸的硫酸浓度相同硫酸浓度的电解硫酸调制液为标准试料液、与总氧化性物质浓度关联并进行了基线修正的吸光度数据，

通过以硫酸浓度为60～97质量％、液温为20～70℃的化学平衡状态的电解硫酸为试料液，在波长190～290nm的条件下测定吸光度，以所述数据为基础对所述电解硫酸中的总氧化性物质浓度进行测定，

其中，所述总氧化性物质包含过一硫酸、过二硫酸和过氧化氢，

且其中，在化学平衡状态下，过一硫酸、过二硫酸和过氧化氢混合存在作为氧化性物质。

2.基板清洗方法，该方法是在电解硫酸溶液的同时使之循环而提高电解浓度、使用电解浓度得到提高的电解硫酸溶液进行半导体基板清洗的基板清洗方法，

其特征在于，所述电解硫酸通过权利要求1的测定方法进行测定，对该电解硫酸溶液的总氧化性物质浓度进行在线监控。

3.如权利要求2所述的基板清洗方法，其特征在于，所述电解硫酸在与基板接触之前，一部分作为试料液从系统内分支而出并进行吸光度测定，测定后的所述试料液返回所述系统内。

4.如权利要求2或3所述的基板清洗方法，其特征在于，用于基板清洗的清洗废液不经循环再利用而直接丢弃，在从电解液循环管线到向基板清洗供给电解硫酸溶液的供给管线的任意位置使电解硫酸的一部分作为试料液分支而出并进行吸光度测定，藉此测定总氧化性物质浓度，测定后在基板清洗前的位置将所述试料液输送返回至系统内。

5.如权利要求4所述的基板清洗方法，其特征在于，在供给管线的分支位置的上游侧将测定后的电解硫酸返回输送。

6.基板清洗系统，其特征在于,具有：

电解硫酸溶液的电解装置；

位于所述电解装置两端的将硫酸溶液电解的同时使之循环的循环管线；

使用电解硫酸清洗半导体基板的基板清洗装置；

将电解硫酸输送至基板清洗装置的供给管线；

吸光光度计；

存储以与电解硫酸的硫酸浓度相同硫酸浓度的电解硫酸调制液为标准试料液、与总氧化性物质浓度关联并进行了基线修正的吸光度数据的存储部；

将电解硫酸的一部分从所述电解装置、循环管线、供给管线的任一种中取出并分支到所述吸光光度计的分支管线；

使用所述吸光光度计，以硫酸浓度为60～97质量％、液温为20～70℃的化学平衡状态的所述电解硫酸为试料液，在波长190～290nm的条件下测定吸光度，以所得数据和所述进行了基线修正的数据为基础对所述电解硫酸溶液的总氧化性物质浓度进行测定的测定器，

其中，所述总氧化性物质包含过一硫酸、过二硫酸和过氧化氢，

且其中，在化学平衡状态下，过一硫酸、过二硫酸和过氧化氢混合存在作为氧化性物质。