[发明专利]用于回收内部隔热反应器中产生的废热的系统和方法有效

专利信息
申请号: 201480041806.3 申请日: 2014-07-21
公开(公告)号: CN105408718B 公开(公告)日: 2020-05-12
发明(设计)人: C·克里斯蒂安森 申请(专利权)人: A·埃伯哈德
主分类号: F28F3/12 分类号: F28F3/12;F27D17/00;F27D9/00;F28D21/00
代理公司: 北京市铸成律师事务所 11313 代理人: 孟锐
地址: 丹麦,*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 回收 内部 隔热 反应器 产生 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种用于回收由回转窑排放的热量的系统,所述系统包括:

一个或多个模块,其中所述模块包封所述窑的外壳体的一部分,其中每个所述模块包括:

内壳体和外壳体,所述内壳体和所述外壳体限定所述模块内的空间;

入口,其被配置来将水接收到所述模块中;

布水器,其被配置来将进入所述模块的水以膜的形式散开,所述膜被配置来在所述内壳体的整个内表面上方流动,其中所述内表面是所述模块的邻近所述窑的所述外壳体的表面;

压力释放装置,其被配置成一旦所述模块内的压力超过预定压力就允许蒸汽离开,从而释放蒸汽烟羽,其中所述蒸汽烟羽的出现是热点形成的指示;

真空释放装置,其被配置成一旦所述模块内产生的真空超过预定限值就将空气接收到所述模块中;以及

出口,其被配置来允许所述水从所述模块离开,

其中所述模块或模块对被设置成使得至少一个间隙被限定在由所述模块对限定的圆周内,或者一个间隙被限定在所述模块与所述窑的所述外壳体之间,并且所述系统任选地还包括至少一个覆盖构件,所述至少一个覆盖构件被配置成可操作来限制所述间隙在所述模块对之间或者在所述模块与所述窑的所述外壳体之间的暴露程度。

2.如权利要求1所述的系统,所述系统还包括温度调节器,所述温度调节器用于测量离开每个模块的水的温度,并且调节通过所述入口进入所述模块的水流以维持离开所述模块的水的所述温度。

3.如权利要求1和2中任一项所述的系统,所述系统还包括枢转机构,其中所述枢转机构使得所述模块能够围绕枢转轴线枢转,和/或

所述系统还包括用于调整所述窑与所述模块之间的距离的机构。

4.如权利要求3所述的系统,其中所述枢转机构使得所述模块能够朝向和远离所述窑的所述外壳体移动,其中所述枢转机构包括被配置来在第一位置或第二位置与支腿接合的可缩回臂,其中,

在所述第一位置,所述可缩回臂的延伸导致所述模块朝向所述窑的所述外壳体移动,并且所述臂的缩回导致所述模块远离所述外壳体移动;以及

在所述第二位置,所述臂的延伸导致所述模块远离所述外壳体移动,并且所述臂的缩回导致所述模块朝向所述外壳体移动。

5.如权利要求1和2中任一项所述的系统,所述系统还包括沿着所述窑的纵向轴线设置的多个模块或多对模块。

6.如权利要求1和2中任一项所述的系统,其中所述模块适配有至少一个盖板,其中所述盖板从所述模块朝向所述窑的所述外壳体径向地延伸。

7.如权利要求1和2中任一项所述的系统,其中所述模块限定窗口,其中所述窗口有助于所述窑的所述外壳体的温度的测量,其中所述窑的所述外壳体的所述温度通过调整所述模块与所述窑的所述外壳体的接近性来调节。

8.如权利要求1和2中任一项所述的系统,所述系统还包括限定在所述模块中的至少一个孔,其中所述孔被配置来允许所述模块内形成的蒸汽离开并且在所述模块内形成真空的情况下促进空气进入。

9.如权利要求1和2中任一项所述的系统,其中利用针对波长处在1000纳米与10000纳米之间的辐射具有发射率的涂料涂刷所述窑的所述外壳体的外表面和所述模块的所述内壳体的外表面。

10.根据权利要求1所述的系统,其中包封所述窑的所述外壳体的所述一个或多个模块沿着所述窑的长度设置,并且其中所述窑上热点的形成由离开所述压力调节装置或至少一个孔的所述蒸汽的一个或多个特征的特征装置来检测。

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