[发明专利]光活性层的生产方法

权利要求书

1.一种用于生产半透明的光活性层的方法，所述方法包括：

(a)在致密层基板上直接布置组合物以形成所得到的层，该组合物包括光活性材料或光活性材料的一种或多种前体；以及

(b)通过破坏所得到的层并且在所得到的层中形成孔隙来对所述所得到的层去湿以形成所述光活性层，其中，所述光活性层包括：多个吸收区域，所述多个吸收区域包括光活性材料；以及多个透明区域，所述多个透明区域不包括所述光活性材料；

其中，所述光活性材料包括钙钛矿；以及

其中(b)包括：对所述所得到的层去湿直至形成所述光活性材料的覆盖度为20％至90％的所述光活性材料的层。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，(b)包括：对所述所得到的层去湿直至形成所述光活性材料的层，所述光活性材料的层包括所述光活性材料的多个不相连的吸收区域，其中，所述吸收区域的平均半径为0.4μm至100μm，并且两个相邻的吸收区域的中心之间的平均距离为1μm至300μm。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，(b)包括：对所述所得到的层去湿直至形成所述光活性材料的层，所述光活性材料的层包括所述光活性材料的多个不相连的透明区域，所述透明区域不包括所述光活性材料，其中，所述透明区域的平均直径为0.4μm至300μm。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述光活性材料的层对波长为370nm至740nm的光具有10％至90％的平均透射率。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述光活性材料包括可溶液处理的光活性材料。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述光活性材料包括光活性的钙钛矿。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述光活性材料包括混合阴离子的钙钛矿，其中，所述混合阴离子的钙钛矿包括选自卤阴离子和硫族阴离子的两种或更多种不同的阴离子。