[发明专利]用于获得提供有涂层的基材的方法

权利要求书

1.用于获得基材的方法，该基材在它的至少一个面的至少一部分上被提供有涂层，该涂层包含该涂层的至少一种性质的空间调制图案，特征在于该方法包括使用激光辐射对在该基材上沉积的连续涂层进行热处理的步骤，其中在热处理之前该涂层至少部分地吸收该激光辐射，这种热处理步骤使得对该基材使用以至少一根激光线的形式被聚焦在涂层上的激光辐射进行照射，保持该涂层是连续的并且不熔化该涂层，使该基材和该聚焦在该涂层上的激光线在与该激光线的纵向方向(Y)横交的方向(X)中进行相对移动，同时在这种相对移动期间，作为该相对移动的速度(v)和该图案在相对移动方向(X)中的尺寸的函数对该激光线的功率(P_las)进行时间调制。

2.根据权利要求1的方法，特征在于该涂层在热处理之前是单层。

3.根据权利要求1的方法，特征在于该涂层在热处理之前是层堆叠体，其至少一个层至少部分地吸收激光辐射。

4.根据权利要求1-3任一项的方法，特征在于该涂层在热处理之前包含至少一个基于至少一种金属、准金属、氧化物、氮化物、碳化物或者硫化物，或者它们的任一种混合物的层。

5.根据权利要求1-3任一项的方法，特征在于激光线的纵向方向(Y)是与相对移动的方向(X)基本垂直的。

6.根据权利要求1-3任一项的方法，特征在于激光线是固定的并且使基材在相对于该激光线的纵向方向(Y)的横交方向(X)中平移地移动。

7.根据权利要求1-3任一项的方法，特征在于通过对每个形成激光线的激光源的输入电信号进行时间调制来对该激光线的功率(P_las)进行时间调制。

8.根据权利要求7的方法，特征在于该图案具有空间周期性并且该激光源的输入电信号的时间调制的频率等于在基材和激光线之间的相对移动速度与图案的周期的比率。

9.根据权利要求7的方法，特征在于该激光源的输入电信号的时间调制在该基材和该激光线的相对移动期间进行改变。

10.根据权利要求7的方法，特征在于当激光线使用多个独立激光源形成时，该输入电信号的时间调制对于形成激光线的激光源彼此是不同的。

11.根据权利要求1-3任一项的方法，特征在于所述激光线的平均宽度在10微米至1000微米之间。

12.根据权利要求1-3任一项的方法，特征在于该激光线在该焦平面中的平均表面功率密度是大于或等于10³W/cm²。

13.根据权利要求1-3任一项的方法，特征在于每个形成该激光线的激光源是连续源或者准连续源。

14.根据权利要求1-3任一项的方法，特征在于每个形成该激光线的激光源是脉冲式源，并且对该发射的脉冲的功率进行时间调制。

15.根据权利要求1-3任一项的方法，特征在于该激光线是固定的和该基材具有至少一个第一维度(L; C1)和第二维度(; C2)，所述维度是彼此横交的，该方法包括至少一个第一步骤和第二步骤，使得:

-在第一步骤中，使该基材与它的第一维度(L; C1)平行地并与该激光线的纵向方向(Y)横交地进行平移移动，并对该激光线的功率(P_las)进行时间调制；

-在第二步骤中，使该基材与它的第二维度(; C2)平行地并与该激光线的纵向方向(Y)横交地进行平移移动，和对该激光线的功率(P_las)进行时间调制。

16.根据权利要求1-3任一项的方法，特征在于在该相对移动的速度(v)为至少3m/min。

17.根据权利要求1-3任一项的方法，特征在于在该热处理期间，该基材的与被处理涂层相反的面的温度小于或等于100℃。

18.根据权利要求1-3任一项的方法，特征在于该涂层，一旦处理后，包含该涂层的至少一种性质的空间调制图案，该性质选自电导率、发射率、辐射的透射率、辐射的反射率、辐射的吸收率、浊度、比色坐标、亲水性、光催化活性。

19.根据权利要求1-3任一项的方法，特征在于它，在热处理步骤之前，包含在基材上沉积该涂层的每个层的步骤。