[发明专利]晶体溴结构域抑制剂有效
申请号: | 201480042976.3 | 申请日: | 2014-06-27 |
公开(公告)号: | CN105473586B | 公开(公告)日: | 2019-11-05 |
发明(设计)人: | 龚豫川 | 申请(专利权)人: | 艾伯维公司 |
主分类号: | C07D471/04 | 分类号: | C07D471/04;A61K31/437;A61P13/12;A61P15/16;A61P31/18;A61P35/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 周齐宏;彭昶 |
地址: | 美国伊*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 晶体 结构 抑制剂 | ||
1.N-[4-(2,4-二氟苯氧基)-3-(6-甲基-7-氧代-6,7-二氢-1H-吡咯并[2,3-c]吡啶-4-基)苯基]乙磺酰胺的分离的结晶形式,其中,所述结晶形式具有包含三个或更多个选自下列的2θ峰值±0.2的粉末X射线衍射图:6.2°、9.0°、12.3°、12.6°、15.6°、22.1°、25.6°、26.3°、27.0°和27.3°。
2.N-[4-(2,4-二氟苯氧基)-3-(6-甲基-7-氧代-6,7-二氢-1H-吡咯并[2,3-c]吡啶-4-基)苯基]乙磺酰胺的分离的结晶形式,其中,所述结晶形式具有包含下列2θ峰值±0.2的粉末X射线衍射图:6.2°、9.0°、11.0°、12.3°、12.6°、13.1°、14.1°、15.6°、16.4°、16.5°、16.9°、17.8°、18.1°、18.3°、18.9°、20.4°、21.1°、21.6°、21.8°、22.1°、22.9°、23.2°、24.4°、24.7°、25.6°、26.3°、27.0°和27.3°。
3.权利要求1的结晶形式,具有包含三个、四个、五个或六个选自下列的2θ峰值±0.2的粉末X射线衍射图:6.2°、9.0°、12.3°、12.6°、15.6°、22.1°、25.6°、26.3°、27.0°和27.3°。
4.权利要求1的结晶形式,具有包含六个选自下列的2θ峰值±0.2的粉末X射线衍射图:6.2°、9.0°、12.3°、12.6°、15.6°、22.1°、25.6°、26.3°、27.0°和27.3°。
5.权利要求1的结晶形式,具有包含五个选自下列的2θ峰值±0.2的粉末X射线衍射图:6.2°、9.0°、12.3°、12.6°、15.6°、22.1°、25.6°、26.3°、27.0°和27.3°。
6.权利要求1的结晶形式,具有包含四个选自下列的2θ峰值±0.2的粉末X射线衍射图:6.2°、9.0°、12.3°、12.6°、15.6°、22.1°、25.6°、26.3°、27.0°和27.3°。
7.权利要求1的结晶形式,具有包含三个选自下列的2θ峰值±0.2的粉末X射线衍射图:6.2°、9.0°、12.3°、12.6°、15.6°、22.1°、25.6°、26.3°、27.0°和27.3°。
8.权利要求1的结晶形式,具有包含下列2θ峰值±0.2的粉末X射线衍射图:6.2°、9.0°、12.3°、12.6°和15.6°。
9.权利要求1的结晶形式,具有包含下列2θ峰值±0.2的粉末X射线衍射图:22.1°、25.6°、26.3°、27.0°和27.3°。
10.权利要求2的结晶形式,具有包含在下列2θ位置的峰值±0.2的粉末X射线衍射图:6.2°、9.0°、12.3°、12.6°、13.1°、14.1°、16.4°、16.5°、16.9°、17.8°、18.1°、18.3°和18.9°。
11.权利要求2的结晶形式,具有包含在下列2θ位置的峰值±0.2的粉末X射线衍射图:6.2°、9.0°、12.3°、12.6°、13.1°、14.1°、18.1°和18.9°。
12.权利要求2的结晶形式,具有包含在下列2θ位置的峰值±0.2的粉末X射线衍射图:6.2°、9.0°、12.3°、12.6°、13.1°和18.1°。
13.权利要求2的结晶形式,具有包含在下列2θ位置的峰值±0.2的粉末X射线衍射图:9.0°、12.3°、12.6°、13.1°和18.1°。
14.权利要求1的结晶形式,在240和242℃之间具有差示扫描量热图吸热线。
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