[发明专利]基于瓦片的图形处理方法和装置有效
申请号: | 201480043831.5 | 申请日: | 2014-06-16 |
公开(公告)号: | CN105453137B | 公开(公告)日: | 2019-11-05 |
发明(设计)人: | 达伦·克罗克斯福特;托马斯·詹姆斯·库克西;斯恩·特里斯拉姆·艾利斯 | 申请(专利权)人: | ARM有限公司 |
主分类号: | G06T11/40 | 分类号: | G06T11/40;G06T15/00 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 李晓冬 |
地址: | 英国*** | 国省代码: | 英国;GB |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 瓦片 输入图形 标志数据 读取 方法和装置 图形处理 阈值水平 不透明 后续处理 输出图形 存储器 透明的 元数据 下层 | ||
1.一种用于处理图形数据以生成多个输出图形瓦片的设备,所述瓦片共同形成一输出图形帧,该设备包括:
合成电路系统,被配置以针对共同瓦片区域结合一个或更多个输入图形瓦片以形成针对所述共同瓦片区域的输出图形瓦片;
其中所述一个或更多个输入图形瓦片中的每一者具有关联的瓦片标志数据;及
行为修正电路系统,被配置以读取所述一个或更多个输入图形瓦片针对所述共同瓦片区域的瓦片标志数据,并且依据瓦片标志数据控制对所述一个或更多个输入图形瓦片的处置,
其中所述关联的瓦片标志数据指示以下各者中一者或更多者:
(i)所述输入图形瓦片对于所述输出图形瓦片作出的贡献小于第一贡献阈值水平;及
(ii)所述输入图形瓦片对于所述输出图形瓦片作出的贡献大于第二贡献阈值水平。
2.如权利要求1所述的设备,还包括:
存储器,被配置以储存输入图形瓦片;及
瓦片读取电路系统,耦接至所述存储器并被配置以从所述存储器中读取输入图形瓦片;其中
所述行为修正电路系统包括瓦片读取抑制电路系统,该瓦片读取抑制电路系统耦接至所述瓦片读取电路系统并被配置以读取所述一个或更多个输入图形瓦片针对所述共同瓦片区域的瓦片标志数据并依据瓦片标志数据控制所述一个或更多个输入图形瓦片中各者从所述存储器的读取。
3.如权利要求2所述的设备,其中所述瓦片标志数据是透明性标志数据,该透明性标志数据可指示以下各者中一者或更多者:
(i)大于输入图形瓦片中至少一部分的第一透明性阈值水平;及
(ii)小于输入图形瓦片中至少一部分的第二透明性阈值水平。
4.如权利要求3所述的设备,其中储存在所述存储器中的输入图形瓦片中的至少一者包括逐个像素透明性数据,该数据独立地规定每一像素的透明度,该透明度控制由所述合成电路系统进行的输入图形瓦片的混合。
5.如权利要求4所述的设备,其中所述逐个像素透明性数据作为输入图形瓦片的每一像素的单独α平面数据储存。
6.如权利要求1所述的设备,其中所述瓦片标志数据是强度标志数据,该强度标志数据可指示以下各者中一者或更多者:
(i)小于输入图形瓦片中至少一部分的第一强度阈值水平;及
(ii)大于输入图形瓦片中至少一部分的第二强度阈值水平。
7.如权利要求6所述的设备,其中在所述输入图形瓦片内的像素的强度值与所述第一强度阈值水平及所述第二强度阈值水平比较之前藉由透明性值而调变。
8.如权利要求7所述的设备,其中所述输入图形瓦片包括颜色成分像素值,并且所述瓦片读取抑制电路系统被配置以抑制对具有以下颜色成分值的瓦片的读取:所述颜色成分值小于第一预定强度和大于第二预定强度中的一者。
9.如权利要求8所述的设备,其中所述像素值位于像素颜色空间中,该像素颜色空间是以下各者之一:RGB、sRGB,及YUV。
10.如权利要求2所述的设备,其中所述瓦片读取抑制电路系统被配置以藉由一操作响应于瓦片标志,该瓦片标志指示小于给定第一输入图形瓦片的至少一部分的第一贡献阈值水平,所述操作是抑制对所述给定第一输入图形瓦片的所述至少一部分的读取。
11.如权利要求1所述的设备,其中所述一个或更多个输入图形瓦片具有各自关联的优先值,这些优先值指示一相对排序,所述一个或更多个输入图形瓦片利用该相对排序彼此覆盖。
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