[发明专利]包括补偿电路的铝厂有效
申请号: | 201480044967.8 | 申请日: | 2014-07-30 |
公开(公告)号: | CN105452536B | 公开(公告)日: | 2017-09-19 |
发明(设计)人: | S·瑞纳乌迪尔;B·巴德特;O·马丁;C·杜瓦 | 申请(专利权)人: | 力拓艾尔坎国际有限公司 |
主分类号: | C25C3/08 | 分类号: | C25C3/08;C25C3/06 |
代理公司: | 北京北翔知识产权代理有限公司11285 | 代理人: | 郑建晖,杨勇 |
地址: | 加拿大*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 包括 补偿 电路 | ||
1.一种铝厂(1),包括:相对于行的长度横向布置的至少一行电解池(50),所述至少一行电解池(50)中的每个均包括:一个槽壳(60),阳极组件以及一个阴极(56),所述阳极组件包括一个支撑件(53)和至少一个阳极(52),且阴极导体(55)穿过所述阴极(56),所述阴极导体(55)用来收集所述阴极处的电解电流(I1)以将其传导到所述槽壳的外部的阴极引出部,其特征在于,所述电解池(50)包括:连接到所述阳极组件的上升和连接电导体(54),所述上升和连接电导体沿着所述电解池(50)的两个相对的纵向边缘向上延伸以将所述电解电流(I1)传导到所述阳极组件;以及连接到所述阴极引出部的链接导体(57),所述链接导体被设计为将来自所述阴极引出部的电解电流传导到下一个电解池(50)的上升和连接电导体(54),并且所述铝厂(1)包括至少一个补偿电路(6),所述至少一个补偿电路在所述至少一行电解池(50)下方延伸,在所述至少一行电解池(50)下方流动的通过补偿电路(6)的补偿电流(I2)的流动方向与流动通过位于上方的电解池(50)的电解电流(I1)的总体流动方向相反。
2.根据权利要求1所述的铝厂(1),其中所述补偿电路(6)是与电解电流(I1)流动通过的电路分立的次级补偿电路。
3.根据权利要求1或2所述的铝厂(1),其特征在于,所述铝厂(1)包括彼此平行布置的两行池,所述池通过单个站供电且串联电连接,以使得在所述两行池中的第一行中流动的电解电流随后以与其在所述两行池中的第一行中流动的方向总体相反的方向在所述两行池中的第二行中流动;并且所述补偿电路(6)在这两行平行的池下方形成一个环路。
4.根据权利要求1或2所述的铝厂(1),其特征在于,所述电解池(50)包括多个上升和连接电导体(54),所述多个上升和连接电导体(54)沿着电解池的两个纵向侧中的每一个以预定间隔分布在对应的纵向边缘的整个长度上。
5.根据权利要求1或2所述的铝厂(1),其特征在于,所述上升和连接电导体(54)相对于所述电解池(50)的纵向中央平面以对称的方式布置。
6.根据权利要求1或2所述的铝厂(1),其特征在于,所述链接导体(57)在电解池(50)下方在相对于电解池(50)的横向方向上直地延伸。
7.根据权利要求1或2所述的铝厂(1),其特征在于,所述补偿电路(6)包括形成彼此独立的多个次级补偿子电路的电导体。
8.根据权利要求1或2所述的铝厂(1),其特征在于,所述补偿电路(6)包括在所述电解池(50)下方平行延伸的电导体。
9.根据权利要求1或2所述的铝厂(1),其特征在于,形成所述补偿电路的电导体在所述电解池(50)下方延伸,共同形成一层的二到十二个平行的电导体。
10.根据权利要求7所述的铝厂(1),其特征在于,形成次级补偿电路的电导体在所述电解池(50)下方延伸,共同形成一层的二到十二个平行的电导体。
11.根据权利要求1或2所述的铝厂(1),其特征在于,形成所述补偿电路的电导体在所述电解池(50)下方延伸,共同形成一层的三到十个平行的电导体。
12.根据权利要求7所述的铝厂(1),其特征在于,形成次级补偿电路的电导体在所述电解池(50)下方延伸,共同形成一层的三到十个平行的电导体。
13.根据权利要求7所述的铝厂(1),其中所述电导体相等地间隔开,并且相对于电解池(50)的横向中央轴线对称地布置。
14.根据权利要求8所述的铝厂(1),其中所述电导体相等地间隔开,并且相对于电解池(50)的横向中央轴线对称地布置。
15.根据权利要求9所述的铝厂(1),其中所述电导体相等地间隔开,并且相对于电解池(50)的横向中央轴线对称地布置。
16.根据权利要求10所述的铝厂(1),其中所述电导体相等地间隔开,并且相对于电解池(50)的横向中央轴线对称地布置。
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