[发明专利]用于角度过滤的具有受控的角度选择性的角度光过滤单元有效
申请号: | 201480045295.2 | 申请日: | 2014-06-17 |
公开(公告)号: | CN105452909B | 公开(公告)日: | 2017-12-08 |
发明(设计)人: | 艾米丽·萨卡特;里亚德·海德尔;简-卢克·珀卢阿尔;帕特里克·布雄;格雷戈里·文森特 | 申请(专利权)人: | 法国国家科学研究院;法国宇航院 |
主分类号: | G02B5/00 | 分类号: | G02B5/00;G02B5/18;G02B5/20 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人: | 陆嘉 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 角度 过滤 具有 受控 选择性 单元 | ||
1.一种角度光过滤单元(Ei),被优化用于在给定光谱带内关于给定操作入射角的角度过滤,所述角度光过滤单元(Ei)包括:
-第一纳米结构带通光谱过滤器(11i,301),包括在所述光谱带内的第一过滤中心波长,所述第一过滤中心波长表现出第一角度分散曲线,所述角度分散曲线代表作为所述光过滤单元(Ei)上的入射角的函数确定的所述第一过滤中心波长的变化;
-第二纳米结构带通光谱过滤器(12i,302),包括在所述光谱带内的第二过滤中心波长,所述第二过滤中心波长表现出第二角度分散曲线,所述第二角度分散曲线代表作为所述光过滤单元(Ei)上的入射角的函数确定的所述第二过滤中心波长的变化,所述第二角度分散曲线围绕所述操作入射角与所述第一角度分散曲线相割。
2.根据权利要求1所述的角度光过滤单元,其中所述第一纳米结构带通光谱过滤器和第二纳米结构带通光谱过滤器中的至少一个于透射模式下操作。
3.根据权利要求1所述的角度光过滤单元,其中所述第一纳米结构带通光谱过滤器和第二纳米结构带通光谱过滤器中的至少一个于反射模式下操作。
4.根据权利要求1所述的角度光过滤单元,其中所述第一纳米结构带通光谱过滤器和第二纳米结构带通光谱过滤器中的一个于吸收模式下操作。
5.根据前述权利要求中任一项所述的角度光过滤单元,其中所述第一纳米结构带通光谱过滤器和第二纳米结构带通光谱过滤器设置于非平行的平面中。
6.根据权利要求1-4中任一项所述的角度光过滤单元,其中所述第一纳米结构带通光谱过滤器和第二纳米结构带通光谱过滤器中的至少一个是导模共振过滤器、具有独立金属或介质栅的过滤器或者包括MIM(金属-绝缘体-金属)类型共振的过滤器。
7.根据权利要求1-4中任一项所述的角度光过滤单元,其中所述第一纳米结构带通光谱过滤器和第二纳米结构带通光谱过滤器中的至少一个是干扰过滤器。
8.一种用于在若干给定入射角下进行选择性角度过滤的设备,包括根据前述权利要求中任一项所述的角度光过滤单元的阵列,每个所述角度光过滤单元被优化用于关于给定操作入射角的角度过滤。
9.根据权利要求8所述的设备,其中所述第一纳米结构带通光谱过滤器根据包括第一平面载体的至少第一一维或二维矩阵(11)设置,并且所述第二纳米结构带通光谱过滤器根据包括第二平面载体的至少第二一维或二维矩阵(12)设置。
10.根据权利要求9所述的设备,其中所述第一载体和第二载体被设置在非平行的平面中。
11.一种多方向光检测系统,包括根据权利要求8-10中任一项所述的用于在若干给定入射角下进行选择性角度过滤的设备,还包括光检测单元(15j)的阵列,每个光检测单元与角度光过滤单元相关联,用于在所述角度光过滤单元的操作入射角下接收所述角度光过滤单元透射的光通量。
12.根据权利要求11所述的多方向光检测系统,其中角度光过滤单元的所述第一纳米结构带通光谱过滤器或第二纳米结构带通光谱过滤器中的一个是由与所述角度光过滤单元相关联的光检测单元形成的吸收过滤器。
13.根据权利要求11所述的多方向光检测系统,其中所述光检测单元是辐射热测量计。
14.根据权利要求11-13中任一项所述的多方向光检测系统,其中所述光检测单元根据包括平面载体的一维或二维矩阵(15)设置。
15.根据权利要求11-13中任一项所述的多方向光检测系统,还包括外壳(130),所述用于在若干给定入射角下进行选择性角度过滤的设备以及所述光检测单元的阵列设置在所述外壳(130)中。
16.一种用于制造根据权利要求11-15中任一项所述的多方向光检测系统的方法,包括:
-在第一平面载体上制造第一光谱单元的第一矩阵;
-在第二平面载体上制造第二光谱单元的第二矩阵;
-在第三平面载体上制造光检测单元的第三矩阵;
-将所述矩阵设置在外壳中。
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