[发明专利]低散射石英玻璃和石英玻璃的热处理方法有效
| 申请号： | 201480045380.9 | 申请日： | 2014-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN105473518B | 公开（公告）日： | 2019-11-05 |
| 发明（设计）人： | 小野円佳;伊藤节郎;本间脩;网野阳介 | 申请（专利权）人： | AGC株式会社 |
| 主分类号： | C03B37/15 | 分类号： | C03B37/15;C03B20/00;C03B37/10 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 散射 石英玻璃 热处理 方法 | ||
1.一种石英玻璃的热处理方法，其中，将要进行热处理的石英玻璃保持在1200℃以上且2000℃以下的温度、且140MPa以上且200MPa以下的压力的气氛下，持续施加所述压力的时间为1小时以上且15小时以下，
接着，进行冷却时，对于1200℃至900℃的温度范围，在140MPa以上的压力的气氛下进行冷却，
所述石英玻璃中SiO2的含量为99.7质量％以上，OH含量为以质量基准计的50ppm以下，碱金属成分的含量为以质量基准计的100ppm以下，
在热处理的前后，石英玻璃的散射系数变为60％以下。
2.根据权利要求1所述的石英玻璃的热处理方法，其中，进一步对于900℃至200℃的温度范围，在0.1MPa以上的压力的气氛下进行冷却。
3.根据权利要求1所述的石英玻璃的热处理方法，其中，在热处理的前后，石英玻璃的通过正电子湮没寿命法观测到的空隙半径变为98％以下。
4.一种石英玻璃，其为通过权利要求1所述的石英玻璃的热处理方法得到的石英玻璃，
其中SiO2的含量为99.7质量％以上，OH含量为以质量基准计的50ppm以下，碱金属成分的含量为以质量基准计的100ppm以下，
其假想温度为1000℃以上，
其对1.55μm的光的瑞利散射系数为0.065dB/Km以下，且
通过正电子湮没寿命法观测到的空隙半径为0.240nm以下。
5.一种石英玻璃，其为通过权利要求1所述的石英玻璃的热处理方法得到的石英玻璃，
其中SiO2的含量为99.7质量％以上，OH含量为以质量基准计的50ppm以下，碱金属成分的含量为以质量基准计的100ppm以下，
其折射率为1.460以上，
其对1.55μm的光的瑞利散射系数为0.065dB/Km以下，且
正电子被空隙所捕获而湮没时的湮没寿命τ3为1.56ns以下。
6.一种光通信用光纤维，其使用了根据权利要求1所述的石英玻璃的热处理方法得到的石英玻璃。
7.一种光刻用光学构件，其使用了根据权利要求1所述的石英玻璃的热处理方法得到的石英玻璃。
8.一种光通信用光纤维，其使用了权利要求4或5所述的石英玻璃。
9.一种光刻用光学构件，其使用了权利要求4或5所述的石英玻璃。
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