[发明专利]有机发光器件有效

专利信息
申请号: 201480045674.1 申请日: 2014-09-30
公开(公告)号: CN105474427B 公开(公告)日: 2018-04-06
发明(设计)人: 文英均;姜旼秀 申请(专利权)人: 乐金显示有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 代理人: 徐金国
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 有机 发光 器件
【权利要求书】:

1.一种有机发光器件,包括:

基板;

第一电极,提供在基板上;

一个辅助电极,提供在第一电极的至少部分区域上,其中,在第一电极上,提供辅助电极的区域为非发光区域,并且不提供辅助电极的区域为发光区域;

有机材料层,设置在第一电极上的发光区域内;

绝缘层,提供在辅助电极上且不与第一电极接触,并具有突出结构,其中绝缘层具有比辅助电极更大的宽度;以及

第二电极,提供在第一电极和绝缘层上,

其中提供在第一电极上的第二电极与提供在绝缘层上的第二电极具有物理分离形式的电极结构;

其中所述辅助电极和所述绝缘层包括在相同的蚀刻剂下彼此具有不同的蚀刻速率的材料,从而形成具有突出结构的所述绝缘层,所述绝缘层具有比所述辅助电极更大的宽度。

2.根据权利要求1所述的有机发光器件,其中提供在第一电极上的第二电极与辅助电极具有物理分离形式的结构。

3.根据权利要求1所述的有机发光器件,其中提供在第一电极上的第二电极和绝缘层具有物理分离形式的结构。

4.根据权利要求1所述的有机发光器件,其中蚀刻剂包括选自以下的一种或多种:氢氟酸(HF)、磷酸(H3PO4)、缓冲氧化物蚀刻剂(BOE)、缓冲HF溶液(BHF)、过氧化氢基蚀刻剂、CH3COOH、HCl、HNO3和铁基蚀刻剂。

5.根据权利要求1所述的有机发光器件,其中辅助电极包括选自以下的一种或多种:镁、钙、钠、钾、钛、铟、铱、锂、钆、铝、银、锡、铅、铬、钼、铜,及其合金。

6.根据权利要求1所述的有机发光器件,其中绝缘层包括选自以下的一种或多种:光阻材料;聚酰亚胺;聚丙烯;氮化硅;二氧化硅;氧化铝;氮化铝;碱金属氧化物;以及碱土金属氧化物。

7.根据权利要求1所述的有机发光器件,其中第一电极或第二电极包括至少一种选自以下元素的氧化物:铟(In)、锡(Sn)、锌(Zn)、镓(Ga)、铈(Ce)、镉(Cd)、镁(Mg)、铍(Be)、银(Ag)、钼(Mo)、钒(V)、铜(Cu)、铱(Ir)、铑(Rh)、钌(Ru)、钨(W)、钴(Co)、镍(Ni)、锰(Mn)、铝(Al)和镧(La)。

8.根据权利要求1所述的有机发光器件,其中第一电极或第二电极包括选自以下的一种或多种:镁、钙、钠、钾、钛、铟、铱、锂、钆、铝、银、铂、金、钨、钽、铜、锡、铅,及其合金。

9.根据权利要求1所述的有机发光器件,其中有机发光器件旨在用于照明。

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