[发明专利]氨逸出催化剂

权利要求书

1.用于处理排气的催化剂制品，所述催化剂制品包含基材，所述基材具有设置在所述基材之上或之内的第一催化剂层和涂覆在所述第一催化剂层上的第二催化剂层；其中所述第一催化剂层包含第一氧化催化剂，并且所述第二催化剂层含有以下(i)和(ii)的混合物：(i)由负载的钯组成的第二氧化催化剂和(ii)用于选择性还原NO_x和/或存储NH₃的催化剂，其中所述用于选择性还原NO_x和/或存储NH₃的催化剂是负载有Fe和/或Cu的沸石；并且其中所述第一氧化催化剂和所述第二氧化催化剂是不同的配制物。

2.用于处理排气的催化剂制品，所述催化剂制品包含：

a.基材；

b.第一氧化催化剂层，所述第一氧化催化剂层设置在所述基材上和/或内；

c.第二催化剂层，所述第二催化剂层涂覆或设置在所述第一催化剂层之上，其中所述第二层含有用于选择性还原NO_x和/或存储NH₃的催化剂；和

d.第三催化剂层，所述第三催化剂层涂覆或设置在所述第二催化剂层之上，其中所述第三催化剂层包含由负载的Pd组成的第二氧化催化剂；

其中所述第一氧化催化剂和所述第二氧化催化剂是不同的配制物。

3.用于处理排气的催化剂制品，所述催化剂制品包含：

a.基材；

b.第一催化剂层，所述第一催化剂层包含设置在所述基材上和/或内的第一氧化催化剂；

c.第二催化剂层，所述第二催化剂层涂覆或设置在所述第一催化剂层之上，其中所述第二层含有用于选择性还原NO_x和/或存储NH₃的催化剂；和

d.第三催化剂层，所述第三催化剂层涂覆或设置在所述第一催化剂层和第二催化剂层的上游，其中所述第三催化剂层包含由负载的Pd组成的第二氧化催化剂；

其中所述第一氧化催化剂和所述第二氧化催化剂是不同的配制物。

4.权利要求2或权利要求3所述的催化剂制品，其中所述第三催化剂层基本上不含钌、铼、铑、银、锇、铱、铂、金、碱金属和碱土金属以及过渡金属，除了用于钯的金属氧化物颗粒载体的形式的过渡金属之外。

5.权利要求1或权利要求2或权利要求3所述的催化剂制品，其中所述第二催化剂层基本上不含Ag、Au、Pt、Rh、Ru、Ir和Os。

6.权利要求1或权利要求2或权利要求3所述的催化剂制品，其中所述第一氧化催化剂是负载的贵金属。

7.权利要求1或权利要求2或权利要求3所述的催化剂制品，其中所述第一氧化催化剂是负载在金属氧化物颗粒上的Pt或负载在金属氧化物颗粒上的Pt和Pd的混合物。

8.权利要求2或权利要求3所述的催化剂制品，其中用于选择性还原NO_x和/或存储NH₃的所述催化剂是负载有Fe和/或Cu的沸石。

9.权利要求1或权利要求2或权利要求3所述的催化剂制品，其中所述基材是具有50–65％的壁孔隙率的流通式蜂窝。

10.权利要求1或权利要求2或权利要求3所述的催化剂制品，其中所述第一催化剂层的大部分设置在所述基材壁内，并且所述第二催化剂层的大部分设置在所述基材壁的表面上。

11.用于处理排气的系统，所述系统包括：

a.排气歧管；

b.子系统，其用于将氮基还原剂引入所述排气中；

c.SCR催化剂；和

d.前述权利要求中任一项中定义的催化剂制品；

其中组件(a)–(d)串联地流体连通，并且分别处于从上游到下游的连续顺序；并且其中所述系统在所述基材与所述排气歧管之间不含氧化催化剂。