[发明专利]低温下的蚀刻速率提高有效
| 申请号： | 201480046056.9 | 申请日： | 2014-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN105473522B | 公开（公告）日： | 2019-12-03 |
| 发明（设计）人： | R·C·伯克特;B·Y·约翰逊;S·O·澳乌苏;T·L·佩特里司凯 | 申请（专利权）人： | 康宁股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00 |
| 代理公司： | 31100 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 陈哲锋;郭辉<国际申请>=PCT/US2 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 低温 蚀刻 速率 提高 | ||
1.一种蚀刻玻璃材料的方法，该方法包括：
提供蚀刻剂，该蚀刻剂包含19-21体积％HF、9.5-10.5体积％HNO3，和至少40体积％H3PO4，且其中HF:HNO3的体积比例是1.7:1到2.3:1，其中HF、HNO3和H3PO4分别表示63％母液HNO3溶液、49％母液HF溶液和85％母液H3PO4溶液；
提供待蚀刻的玻璃材料；和
使该玻璃材料接触该蚀刻剂，
其中该蚀刻剂不具有除了HF、HNO3和H3PO4以外的其它酸成分。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括以下步骤：
将蚀刻剂的温度控制到20-30℃的温度。
3.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述提供待蚀刻的玻璃材料的步骤包含提供待蚀刻的铝硅酸盐玻璃材料。
4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述提供蚀刻剂的步骤包含提供蚀刻剂，其中HF:HNO3的体积比例是1.8:1到2.2:1。
5.如权利要求3所述的方法，其特征在于，提供蚀刻剂的步骤包含提供蚀刻剂，其中HF:HNO3的体积比例是1.9:1到2.1:1。
6.如权利要求3所述的方法，其特征在于，提供蚀刻剂的步骤包含提供蚀刻剂，其中HF:HNO3的体积比例是1.95:1到2.05:1。
7.如权利要求3所述的方法，其特征在于，提供蚀刻剂的步骤包含提供蚀刻剂，该蚀刻剂只包含水和以下3种酸组分：HF、HNO3和H3PO4。
8.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述方法还包含以下步骤：将蚀刻剂的温度控制到22-28℃内的温度。
9.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述方法还包含以下步骤：对蚀刻剂施加超声。
10.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述方法还包含以下步骤：对待蚀刻的玻璃材料施加超声。
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